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晶圆湿法蚀刻清洗工艺及流量控制发展: 收藏
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引用; 《清洗世界》2022年第10期38卷 1-3,7页; 作者：谷康康陶晓杰合肥工业大学仪器科学与光电工程学院安徽合肥230009 长鑫存储技术有限公司安徽合肥230601; 对比两种集成电路制造湿法工艺设备的优缺点及未来发展趋势,对影响单片湿法清洗工艺中蚀刻率因素进行分析总结,介绍化学药液混合和制程喷吐中流量控制技术的发展,设计实验将两种化学药液流量控制阀件的蚀刻清洗效果对比,并对未来技术发...; 对比两种集成电路制造湿法工艺设备的优缺点及未来发展趋势,对影响单片湿法清洗工艺中蚀刻率因素进行分析总结,介绍化学药液混合和制程喷吐中流量控制技术的发展,设计实验将两种化学药液流量控制阀件的蚀刻清洗效果对比,并对未来技术发展进行简要分析。; 来源：详细信息评论

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