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氮电弧制备陶瓷表面层中TiN相形态及生长机制: 收藏
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引用; 《焊接学报》2011年第12期32卷 29-32,114页; 作者：郑孝义丛大志李欣赵磊刘玉华吉林大学材料科学与工程学院长春130022 上海核工程研究设计院上海200233; 利用氮电弧熔化纯钛基体表面,原位制备氮化钛(TiN)陶瓷表面层,研究陶瓷表面层的形成机理、TiN相的生长形态及其生长机制.结果表明,氮电弧熔化过程为非平衡快速冷却凝固过程,冷却速度可达102～103 K/s,表面层中TiN相的微观生长方式具有...; 利用氮电弧熔化纯钛基体表面,原位制备氮化钛(TiN)陶瓷表面层,研究陶瓷表面层的形成机理、TiN相的生长形态及其生长机制.结果表明,氮电弧熔化过程为非平衡快速冷却凝固过程,冷却速度可达102～103 K/s,表面层中TiN相的微观生长方式具有多样性.在熔池中过冷度较小的位置,TiN晶体为螺型位错侧面长大方式,而熔池底部过冷度较大,其微观生长方式转变为连续生长和侧面台阶生长两种方式交替生长模式.; 来源：详细信息评论

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