摘要：通过对TFT-LCD制造过程中GOA单元不良原因的研究,提出了改善GOA单元不良的方法。分析表明静电放电(ESD)的发生在于电容瞬间释放的电流过大,导致过细的金属线熔化;沟道桥接和开裂的发生在于显影效应,显影方向以及图案密度,导致局部区域沟道光刻胶厚度偏厚和偏薄。采用静电分散释放的连线设计,ESD的发生率从5.4%降低到0.04%以下。GOA单元两侧增加测试图样(Dummy Pattern)的设计防止沟道桥接的发生,减压干燥(VCD)抽气曲线的调整和软烘(Soft Bake)底部温度的优化措施防止沟道开裂的发生,沟道桥接和开裂的发生率从13.4%降低到1.22%以下。

摘要：OGS(One Glass solution)触控显示模组(Touch Panel LCD Module,TLCM)在关机状态下存在边缘黑色光阻(Black Matrix,BM)与可视区色差过大的问题,外观不美观。本文基于此问题,对TLCM的膜层结构进行研究,分析出影响产品色偏的主要因素。首先,利用光学模拟软件模拟不同叠层和膜层厚度的OGS色偏情况。接着,根据模拟结果找出影响单体OGS色偏的主要叠层。然后,参考模拟结果设计几十种不同膜层参数进行实验验证,并结合设备测试和人眼判级找出最佳一体黑效果。结果表明:在特定叠层结构中,消影层(Index Match Film,IM)对一体黑效果影响最大,其中有双消影层的样品可视区与BM区色差值约1NBS,单IM层的产品色差在3.7NBS以上。

摘要：研究了过孔接触电阻变化规律,并进行机理分析,为优化薄膜晶体管的过孔设计提供依据。首先,运用开尔文四线检测法对不同大小、形状、数量的钼/铝/钼结构的栅极和源/漏层金属与氧化铟锡连接过孔的接触电阻进行测试。然后,通过扫描电子显微镜、能量色散X射线光谱仪和聚焦离子束显微镜对过孔内部形貌进行表征。最后,对过孔接触电阻变化规律进行机理分析。实验结果表明:过孔面积越大,接触电阻越小;过孔面积相同时,长方形过孔的接触电阻小于正方形过孔的接触电阻,多小孔的接触电阻小于单大孔的接触电阻,栅极金属与氧化铟锡的过孔接触电阻小于源/漏层金属与氧化铟锡的过孔接触电阻。为了降低钼/铝/钼与氧化铟锡连接过孔的接触电阻,过孔面积尽可能最大化,采用长方形过孔优于正方形过孔,多小过孔优于单大孔设计,同时优化过孔刻蚀工艺,减少过孔内顶层钼的损失。