摘要：应用中频反应磁控溅射技术制备了Al2O3:CeCl3的非晶薄膜。Ce3+含量和薄膜的化学成分通过X射线散射能谱(EDS)测量。薄膜试样的晶体结构用X射线衍射分析。俄歇电子谱用于对薄膜材料的化学组分进行定性分析。薄膜的光致发光峰是在370 nm到405 nm范围内,它们来自于Ce3+离子的5d1激发态向基态4f1的两个劈裂能级的跃迁。发光强度强烈地依赖于薄膜中的掺杂浓度和沉积时的基片温度。薄膜发光来自于氯化铈分子中的发光中心,而不是其他的掺杂Ce3+离子。随铈含量增加,光致发光峰向低能方向移动,可能与薄膜中存在氯元素有关。

摘要：基于反应磁控溅射Al2O3薄膜的紫外—可见—近红外透射实验光谱,采用Swanepoel方法结合Wemple-DiDomenico色散模型,方便地导出了Al2O3薄膜在200—1100nm波长范围内的光学常数,包括折射率、色散常数、膜层厚度、吸收系数及能量带隙.研究发现反应磁控溅射Al2O3薄膜具有高折射率（1.556—1.76,测试波长为550nm）、低吸收和直接能量带隙（3.91—4.20eV）等光学特性,而且其光学常数对薄膜制备过程中的重要工艺参数——膜层后处理温度表现出强烈的依赖性.此外,在膜层的弱吸收和中等吸收光谱区域内,计算得到的折射率色散曲线与分光光度法的测试结果基本符合,说明本实验中所建立的计算方法在确定反应磁控溅射Al2O3薄膜光学常数方面的可靠性.

摘要：为了对铝合金轮毂进行力学性能的分析,基于CAD软件UG进行铝合金轮毂的三维建模,以幅板厚度和两幅板间夹角为变化量,建立了不同结构尺寸和形状的铝合金车轮模型。通过对有限元计算结果的分析,找到了幅板厚度和两幅板间夹角的最佳范围。结果表明:该方法可缩短设计周期,降低成本,对工程应用有一定的实用价值。

摘要：应用中频反应磁控溅射设备制备了Al2O3:Ce3+的非晶薄膜。在溅射时靶电压随氧气分压比的增加而减小,而当氧分压比增大时靶电压沿另一条路径变化,即呈现迟滞回线现象。通过控制氧分压比改变Al2O3:Ce3+薄膜的发光性质。经光致发光检测,薄膜的光致发光谱是在374nm附近的非对称波峰,它来自于Ce3+离子的5d1激发态向基态4f1的两个劈裂能级的跃迁。Ce3+含量和薄膜的化学成分是通过X射线散射能谱(EDS)测量的。当氧分压比增加时薄膜的发光强度增加,在氧分压比为15%是发光强度最大,其后随氧分压比增大发光强度有减小趋势。薄膜的厚度随氧分压比的增加而呈减小的趋势。X射线衍射(XRD)检测表明所制备透明薄膜为非晶态。扫描电镜检测(SEM)显示,随着氧分压的增加非晶薄膜表面趋于致密平滑。发射纯蓝光的Al2O3:Ce3+非晶薄膜在平板显示等领域有着广泛的潜在应用前景。

摘要：从过程设备设计课程特点出发,以如何提高学生工程应用能力为目标,对该课程的理论教学、实验教学、实习和课程设计等教学环节进行改革探索研究,使学生能够应用在教学中所学到的知识解决实际工程问题。

摘要：以过程设备设计课程提高学生实践能力为目标,对该课程的课堂教学内容、教学手段和课程设计等实践教学环节等方面进行全方位探索改革,使学生所学的理论知识能进一步贴近工程实际,培养学生的工程素质和创新实践能力。

摘要：针对"过程设备设计"课程的特点和教学中存在的若干问题,对该课程的教材内容、教学方法、教学手段、教学实践和考核方法等方面进行全方位改革,以提高过程设备设计课程的教学质量,使其在教学体系中更好地发挥作用。

摘要：为适应经济的发展,我们对"过控"专业的培养方案和课程体系进行全面的调整,改革了原有课程体系、实验装置、实习模式,增加了毕业设计(论文)内容等。所有这些,提高了"过控"专业的活力,为"过控"专业发展奠定坚实基础。近几年的教学实践证明:该项改革实现了专业的培养目标,效果较好。

摘要：介绍了超大型瓷套端面切割、研磨芯杆的设计及使用方法。通过对不同切割、研磨工艺结构和种类的优缺点比较,结合超大型瓷套的结构特点及切割、研磨方法,确定了新结构的切割、研磨芯杆。该芯杆增加了延伸杆、保护套和辅助支撑,在实际应用中,能够满足制造工艺要求。加工出的产品满足产品技术要求,解决了超大型瓷套产品制造技术中的断面切割研磨难题。

摘要：介绍了ＰＶＣ生产装置精馏岗全凝器的工艺设计过程，其中主要包括物料衡算、热量衡算及设备的选型。经实践证明，其尾气中ＶＣ气体含量达到工艺要求，符合排放标准。