摘要：木质生物质作为广泛研究的碳源材料,突出问题是反硝化速率缓慢和副产物较多。为此,该文采用碱处理后的低木质素含量碎木作为原料,将反硝化过程细分为碳释放和反硝化阶段,设计温度和pH值的影响因素试验,测定“三氮”、总氮和溶解性有机物(DOC)浓度,以及DOC的光谱特征。结果表明:碳释放和反硝化对温度变化的敏感程度不同,二者的速率在15℃条件下分别为2.6和1.1mg/(g·d),在25℃时分别升高至1.7倍和1.5倍,而在35℃时又分别升高至25℃的1.7和2.1倍;碳释放在pH值5.0和9.0时均受到抑制,而反硝化在pH值9.0条件下明显减弱;亚硝态氮在15℃条件下的峰值最高,占硝态氮去除量的35.7%,而占比值最大的是pH值为9.0的条件;反硝化期间残留DOC占释碳总量的44.6%~52.0%,包括类蛋白和类腐殖酸。

摘要：木质生物质具有复杂的化学组分和结构,用作硝酸盐污染治理的碳源时,常出现反硝化速率缓慢和有机物残留。选择碎木作为原料,采用化学法逐级去除主要组分木质素(RL)和半纤维素(AF),获取的组分进行碳释放,释放溶液用于反硝化,拟合了碳释放动力学特征,测定了碳释放和反硝化产物的碳、氮类指标和光谱特征值。结果表明,碎木去除木质素后在1732和1251 cm^(-1)处的红外吸收峰消失。RL和AF的释碳速率分别为天然碎木(NW)的1.8倍和1.2倍,NW的速率为0.11 mg·g^(-1)·d^(-1)。碳释放过程符合二级反应动力学(相关系数R2>0.90)和Ritger-Peppas动力学(R2>0.98)特征。碳释放产物可被反硝化利用的效率为26.5%~49.7%,其中NW组最低,去除硝酸盐的碳氮比为1.0~1.5,残留有机物的腐殖化程度较低,主要为类酪氨酸。

摘要：由民间歌舞与戏剧艺术融合发展而来的剧种--采茶戏,在我国很多地区都广泛流传,形成不同的艺术流派如桂南采茶戏、江西采茶戏、高州采茶戏等等。本文选取高州采茶戏作为研究对象,首先分析高州采茶戏的历史发展、文化特征的基础上,了解其蕴藏着博大精深的茶文化以及高州地区民俗传统文化形式,进而重点探讨高州采茶戏音乐曲调、声腔构成、表演内容等方面,突出其文化形态特殊性以及地域性特征,进而为研究采茶戏的学者提供理论素材,也为保护和传承民族传统艺术文化贡献力量。

摘要：随着社会经济的快速发展与资源的大力开发,废旧物品的存留问题引起社会的广泛关注,节约、绿色、环保概念逐渐为社会所重视,将废旧物品进行重复利用已成为一项重要研究课题。在室内外环境设计塑造中,可将废旧物品应用于室内外设计,不仅能实现资源回收重复利用,缓解资源浪费问题,同时也能突出绿色环保设计理念,为室内外环境设计提供新的思路。

摘要：我国的民族声乐艺术博大精深,历史悠久。其表达形式丰富多样,无论是国内还是国外,它都在彰显着民族的个性,同时也融入到了世界的艺术文化中。目前,我们的世界是处于多种艺术形式并存的状态,在这样的状态下,各国的艺术作品必须是各具特色的,因此它们之间会在交流过程中产生碰撞,从而会导致被抛弃,或者被借鉴和吸收,这是民族声乐发展的必然趋势。我们经常听到的来自世界各民族的美妙声音,它们有的是几百年前的经典艺术;有的是融入了其他民族元素的优秀作品;也有的是极具现代气息的创新作品。既然外国的优秀作品能传入我国,被国人欣赏、认可、借鉴和吸收,那么我们优秀的民族声乐为什么不能传入世界各地,被外国人欣赏接受呢?因此,我们的民族声乐也应该顺应时代的发展,利用各种文化交流的窗口向世界传播,向世界展现我们优秀的民族特色,让他们能够认识、接受并喜欢上我们的民族声乐文化,这也是国家文化在世界影响力的体现方式。

摘要：近年来我国对于传统文化的研究和保护非常重视,古代音乐作为传统文化的重要组成部分也越来越受到关注。本文把我国古代音乐的发展作为研究对象,结合传统价值观念的演变来分析古代音乐发展的规律。重点阐述儒、道、墨、法、佛等传统价值观念对中国古代音乐发展的影响。

摘要：四川航天科技大厦主楼超大异形钢骨柱宽1.2m,展开长度达3.9m。通过深化设计,采用多项施工措施保证施工质量。并对异形柱加工、安装、钢筋穿插、模板支设、混凝土浇筑等进行充分研究,形成超大异形钢骨柱施工技术,从而解决异形柱与周边梁钢筋交错穿插的难题,理清梁筋与钢骨之间的关系,并取得了较为理想的效果。

摘要：简要分析了短截传输多路耦合器、陷波多路耦合器、并接滤波多路耦合器及定阻抗多路耦合器的基本原理及其特点 ,给出了定阻抗多路耦合器的设计实例。通过几种耦合方法的比较 ,可知定阻抗多路耦合方法具有十分显著的优越性 ,使多重馈电技术在短波中的应用更加有效。

摘要：在声乐教学实践中,耳朵的听力训练很重要,敏锐的听觉能力是声乐演唱通往成功的必备条件。本文论述了内、外耳听觉的区别与联系,声音传导方式的差异,重点讲述了内外耳听觉和谐统一的重要性,并提出训练方法。

摘要：目的设计合理的抛光工艺方案,获得平整的阵列光纤组件端面。方法采用单因素实验法研究抛光工艺参数对阵列光纤表面粗糙度与光纤凸起量的影响,利用光学表面轮廓仪与扫描电镜进行分析与观察。结果在抛光液磨粒质量分数为2%,抛光液流量为15 m L/min,抛光压力为50 k Pa,抛光盘转速为30 r/min的条件下,可以获得平整的阵列光纤组件端面。结论应用化学机械抛光技术加工阵列光纤组件,并设计合理工艺方案,可获得平整的阵列光纤组件端面,其表面粗糙度可低至42.6 nm,光纤凸起值可低至0.14μm。