摘要：文章对采用平面光波导技术的单纤三向器件(Triplexer)芯片结构的参数进行了优化设计,对单元结构的光谱响应进行了模拟计算,通过数值模拟分析了结构的工艺容差性。结果表明,采用双模耦合器和M-Z干涉仪结构可以得到工艺容差性高、光谱响应优良的适用的Triplexer器件。

摘要：基于等效媒质理论 ,对周期性浮雕结构的抗反射特性进行了分析和研究 .给出了二维对称的抗反射浮雕结构等效光学参数的估算方法 .提出了基于最小特征尺寸考虑的脊基和隙空的设计概念 .利用离子束刻蚀工艺技术 ,在 Si片上制备了一种两维红外抗反射浮雕图案 .测试结果表明 ,这种表面结构像单层抗反射膜一样 ,具有很好的增透效果 ,表面结构的等效折射率相当于镀层材料折射率 ,而刻蚀深度则相当于镀层的 1/ 4波长厚度 .

摘要：本文结合标量衍射理论和等效媒质理论提出了二元衍射微透镜的亚波长设计新方法。根据标量理论位相量化的概念 ,分析连续浮雕透镜的相移函数 ,结合等效媒质理论的等效折射率表达式 。

摘要：通过考虑互相关联的光学和工艺参数 ,设计了 3～ 5μm红外 12 8× 12 8硅衍射微透镜阵列。阵列中微透镜的孔径为 10 0μm,透镜 F数为 f / 1.5,微透镜阵列的中心距为 10 0μm。采用多次光刻和离子束刻蚀技术在硅衬底表面制备衍射微透镜阵列。对实际的工艺过程和制备方法进行了讨论 ,对制备出的 12 8× 12 8硅衍射微透镜阵列的光学性能和表面浮雕结构进行了测量。

摘要：通过考虑互相关联的光学和工艺参数 ,设计了 3～ 5 μm红外 12 8× 12 8硅衍射微透镜阵列 .阵列中微透镜的孔径为 5 0 μm,透镜 F数为 f/ 2 .5 ,微透镜阵列的中心距为 5 0 μm.采用多次光刻和离子束刻蚀技术在硅衬底表面制备衍射微透镜阵列 .对实际的工艺过程和制备方法进行了讨论 ,对制备出的 12 8× 12 8硅衍射微透镜阵列的光学性能和表面浮雕结构进行了测量 .

摘要：文章详细论述了温度不敏感平面阵列波导光栅(AWG)的设计原理和几种主要的实现方法,如针对硅基二氧化硅AWG的负热光系数材料嵌入补偿方法、负热光系数材料上包层补偿方法、双金属片应力补偿方法和移动输入波导补偿方法等,并列举了采用这些方法的实际例子和补偿效果.

摘要：研究了等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)的光波导膜层的光学特性,论述了沉积工艺参量和退火处理对膜层性能的影响,优化工艺获得了高质量的波导膜层,成功设计制作了在1 550 nm中心波长损耗低于0.1 dB/cm的平面光波导和阵列波导光栅(AWG)器件。

摘要：运用等效媒质理论对亚波长结构的抗反射表面进行了分析 ,设计出了一种抗反射表面结构 ,并利用二元光学制作工艺技术 ,对这种表面进行了实验制备。测试结果表明 ,这种表面结构就像单层抗反射膜一样 ,具有很好的增透效果 ,表面结构的等效折射率相当于镀层材料折射率 。

摘要：对亚波长结构抗反射表面的设计原理和设计方法进行了较详细的论述 .基于等效媒质近似理论 ,给出了一维光栅结构的等效折射率 .描述了二维对称结构的一维近似分析方法及其等效折射率估算方法 .为得到大的特征尺寸 。

摘要：分析了基于标量衍射理论的位相型衍射微透镜的光学行为 ,结合等效媒质理论提出了二元衍射微透镜的一种新的亚波长结构近似设计方法。根据标量理论位相量化的概念 ,分析连续浮雕透镜的相移函数 ,结合等效媒质理论的等效折射率表达式 ,可以确定亚波长结构透镜的面型函数。