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带有基极镇流电阻的SiGe HBT射频功率放大器
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《固体电子学研究与进展》2012年 第5期32卷 472-476,488页
作者:胡锦 刘安玲 陶可欣 郝明丽湖南大学物理与微电子科学学院长沙410082 长沙学院电子与通信工程系长沙410003 中国科学院微电子研究所北京100029 
基于0.13μm SiGe HBT工艺,设计了一款应用于WLAN、WIFI以及蓝牙等应用领域的射频功率放大器。该功率放大器带有基极镇流电阻,增强了热稳定性和交流稳定性,工作在AB类状态,由三级电路级联构成。完成了功率放大器芯片的PCB板级测试,测试...
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基于SiGe工艺的高增益射频功率放大器
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《微电子学与计算机》2012年 第2期29卷 18-21页
作者:胡锦 陶可欣 郝明丽 张晓轲湖南大学物理与微电子科学学院湖南长沙410082 中国科学院微电子研究所北京100029 
基于0.13μm SiGe HBT工艺,设计应用于无线局域网(WLAN)802.11b/g频段范围内的高增益射频功率放大器.该功放工作在AB类,由三级放大电路级联构成,并带有温度补偿和线性化的偏置电路.仿真结果显示:功率增益高达30dB,1dB压缩点输出功率为24...
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