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CCD制作中的PCM测试图形
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《半导体光电》2008年 第6期29卷 903-905,931页
作者:张振宇 雷仁方重庆光电技术研究所重庆400060 
针对CCD的结构和制作工艺特点,设计出适合CCD的过程控制监控(PCM)测试图形,通过对光刻分辨率、套刻精度、薄膜电容、孔电阻等进行监测,稳定了CCD的工艺水平,提高了CCD的良品率。
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823×592元内线转移CCD图像传感器
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《半导体光电》2015年 第6期36卷 905-908页
作者:杨洪 雷仁方 郑渝 吕玉冰 翁雪涛重庆光电技术研究所重庆400060 
采用三层多晶硅、埋沟、双层金属工艺研制了1/2英寸823×592、8.3μm×8.3μm内线转移CCD,该器件设计制作了纵向抗晕结构,实现了内线转移器件光晕抑制。该器件水平驱动频率可达30MHz,峰值响应波长位于550nm,动态范围62.6dB。
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CCD MPP结构制作工艺技术研究
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《半导体光电》2009年 第6期30卷 867-869页
作者:雷仁方 杜文佳 李睿智 郑渝 翁雪涛 李金重庆光电技术研究所重庆400060 
在1024×1024可见光电荷耦合器件(CCD)的基础上增加了MPP(Multi-Pinned Phase)结构设计和工艺制作。制得的1024×1024可见光MPP CCD实现了MPP功能,有效抑制了CCD表面暗电流的产生。当MPP注入剂量为(6±2)×1011cm-2时,...
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硅基线性模式APD焦平面研制
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《半导体光电》2022年 第5期43卷 854-860页
作者:郭安然 雷仁方 黄建 邓光平 马华平 黄烈云 谷顺虎 郭培重庆光电技术研究所重庆400000 
针对三维激光雷达的应用场景对雪崩光电二极管(APD)焦平面的性能要求,研究并制备了一种2×128硅基线性模式APD焦平面组件,它由硅基APD焦平面阵列、读出电路和制冷封装管壳组成。APD像元采用拉通型结构,通过大尺寸微透镜实现了高填...
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