摘要：在构造两水平因子设计时,折叠反转是非常有用的技巧.折叠反转设计是通过改变初始设计中一个或多个因子的符号产生的跟随设计.通过把折叠反转设计中的处理加到初始设计中所得到的设计称为扩大设计.本文中,我们应用条件极值的方法得到了一般折叠反转方案下扩大设计在中心化L_2-偏差下一个新的下界,它可以作为寻找最优折叠反转方案的一个基准.

摘要：均匀设计以其稳健和使用方便、灵活的特性而广受欢迎.为获得实验目标区域内散布均匀的设计点集,不同的均匀度量标准相继被提出.目前被广泛应用的有中心化L_(2)-偏差、可卷型L_(2)-偏差、混合偏差等.对称化L_(2)-偏差具有更好的几何性质,但受限于投影均匀性差的缺陷,使用范围十分有限.为了改进对称化L_(2)-偏差的低维投影均匀性,基于指数加权方式的投影加权对称化L_(2)-偏差的概念被提出,加权后的对称化L_(2)-偏差既能保留原偏差的各种优良性质,同时有效克服原来的缺陷并有更优异的表现.折叠翻转是构造因子设计时非常有用的技巧.本文利用投影加权对称偏差来作为评价折叠翻转方案的最优性准则,得到了两水平U-型设计在一般折叠翻转方案下扩大设计的投影加权对称偏差的下界,该下界可以作为寻找最优折叠翻转方案的基准.

摘要：中心化L_2偏差已被用来作为部分因析设计均匀性的度量,并用来区分几何非同构设计.中心化L_2偏差均值也被用来度量部分因析设计均匀性,这样就可以对现有最小低阶混杂设计进行水平置换,从而获得中心化L_2偏差最小的均匀最小低阶混杂设计.本文里,我们针对三水平部分因析设计讨论中心化L_2偏差均值的性质,给出中心化L_2偏差均值与正交性准则,最小低阶矩混杂准则之间的解析关系,同时给出中心化L_2偏差均值的两个下界.

摘要：均匀试验设计是部分因子设计的主要方法之，已被广泛地应用于工业生产、系统工程、制药及其他自然科学中．各种偏差被用来度量部分因子设计的均匀性．不管使用哪种偏差，关键的问题是寻找一个精确的偏差下界，因为它可以作为衡量设计均匀性的标准．本文应用条件极值的方法得到了三水平U-设计在对称化L2-偏差下的下界，该下界可作为寻找均匀设计的一个基准．

摘要：二水平部分因子设计在工农业生产、科学实验等领域得到广泛应用,因此有关二水平部分因子设计的研究一直是热点问题.最近,一种称为doubling的方法被用来构造二水平部分因子设计,特别是在构造分辨度为Ⅳ的设计时,这种方法是非常简单但很实用的方法,本文从均匀性的角度来研究double设计,进一步讨论doubling方法的实用性,利用对称化L_2-偏差作为均匀性的测度,发现double设计D(X)的均匀性与初始设计X的均匀性有着密切的联系,给出了double设计在对称化L_2-偏差下的下界.

摘要：均匀设计是部分因子设计的主要方法之一,已被广泛地应用于工业生产、系统工程、制药及其他自然科学中.各种偏差被用来度量部分因子设计的均匀性,其关键的问题是寻找一个精确的偏差下界,因为它可以作为衡量设计均匀性的标准.该文给出了4水平对称U-型设计的对称化L_(2)-偏差的下界,以及2、3混水平和2、4混水平非对称U-型设计的对称化L_(2)-偏差的下界.

摘要：讨论了同时应用区组方案和折叠反转技巧时在sn-p正规部分因子设计中选择最优设计的问题,其中s是一个素数或素数幂.以分区组sn-p正规部分因子设计折叠反转的一般结构为基础,给出了组合区组设计的处理和区组裂区字长型的定义.该文证明了,对于已分区组的初始设计,它的组合区组设计的处理和区组裂区字长型与区组折叠反转方案无关.对于一个未分区组的初始设计,其组合区组设计定义的区组和折叠反转方案有最小混杂的充分必要条件是在不考虑区组方案时折叠反转方案有最小混杂,在不考虑折叠反转方案时区组方案有最小混杂.

摘要：讨论了在同时应用区组和折叠反转技巧时,在(s^r)×s^n正规部分顺子设计中选择最优设计的问题,其中r(≥2)是一个整数,s是一个素数或素数幂,以分区组(s^r)×s^n正规部分因子设计折叠反转的一般结构为基础,给出了扩大区组设计的处理和区组裂区字长型的定义.可以证明,扩大区组设计的处理和区组裂区字长型与区组折叠反转方案无关.对于一个未分区组的初始设计,针对扩大区组设计定义的区组和折叠反转方案有最小混杂当且仅当不考虑区组方案时折叠反转方案有最小混杂;不考虑折叠反转方案时区组方案有最小混杂.

摘要：以计算机技术为基础的模拟已被广泛应用于系统工程和高科技领域的发展中.计算机试验和设计已成为科技文献讨论的热点.扩展设计作为一种新型的试验设计近年来受到越来越广泛地关注.评价设计的最优性准则有很多,均匀性准则是其中的一种.均匀设计以其经济性和同时研究多个高水平因子时具有试验处理的灵活性被广泛接受,尤其是在对模型信息知之甚少时.本文以最优的U-型设计为基础,应用条件极值的方法讨论三水平扩展设计在三种常见偏差下的均匀性,得到了三水平扩展设计在三种常见偏差下的下界,该下界可作为寻找三水平均匀扩展设计的一个基准.

摘要：在许多工业应用中,通常分步应用跟随设计来考察输入(因子)和产出(响应)间的关系.在许多跟随设计中,在跟随阶段可以加入一些另外的两水平或三水平因子,因为它们在初始阶段可能被忽略但又十分重要.文章在均匀性准则下,提出了中心化L2-偏差意义下的混水平列扩充均匀设计,给出了列扩充设计在中心化L2-偏差下的解析表达式及相应的下界,其可作为搜索均匀设计的基准.进一步,具有一个附加区组因子的列扩充设计是均匀的当且仅当未加区组因子时的列扩充设计是均匀的.