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真空磁场热处理温度对不同厚度的Ni88Cu12薄膜畴结构及磁性的影响
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《物理学报》2020年 第9期69卷 238-243页
作者：刘文姝 高润亮 冯红梅 刘悦悦 黄怡 王建波 刘青芳兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室兰州730000 兰州大学特殊功能材料与结构设计教育部重点实验室兰州730000 
利用射频磁控共溅射方法,在Si衬底上制备了Ni88Cu12薄膜,并且研究了膜厚以及真空磁场热处理温度对畴结构和磁性的影响. X射线衍射结果表明热处理后的薄膜晶粒长大,扫描电子显微镜结果发现不同热处理温度下薄膜表现出不同的形貌特征.热...
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