摘要：AlN晶体是一种脆性难加工半导体材料。为了高效率高质量制备AlN晶体衬底,设计了不同化学成分的研磨液研磨AlN晶体,借助激光共聚焦显微镜和X射线光电子能谱仪研究了化学作用对晶体表面材料去除行为的影响。结果表明:碱性研磨液有利于获得最佳研磨结果,材料去除率为23μm/h,表面粗糙度为R_(a)为122 nm。在碱性环境下研磨液中金刚石磨粒具有良好的分散性。碱性溶液能够腐蚀晶体表面,形成含碱式铝盐的变质层,并引起表面形貌产生显著改变。研磨界面内,化学作用导致AlN晶体表面产生变质层,便于材料的机械去除,从而有利于提升研磨效率和研磨质量。研究结果可为AlN晶体超精密加工工艺优化提供参考。

摘要：化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)是当今唯一能够提供全局平面化的技术,其抛光机理的研究是当前的热点。综述了考虑抛光液和抛光垫特性的抛光机理模型,分析了各模型的相关特点,最后对CMP模型的发展和研究方向提出展望。

摘要：重点探讨了蓝宝石衬底基片表面平整加工工艺方案,并开展了表面平整加工工艺的实验研究。采用形状测量激光显微系统、接触式测厚仪等,对平整加工工艺各阶段的表面形貌、表面粗糙度Ra、翘曲度、平整度及加工去除量等进行测量和对比分析。结果表明:随着本实验平整加工工艺方案的进行,蓝宝石衬底基片的表面质量不断提高,最终获得了超光滑无损伤镜面表面,化学机械抛光后的衬底表面粗糙度Ra达0.3nm,翘曲度为3.8μm,平整度为1.5μm,符合蓝宝石衬底基片超精密加工的表面质量要求。

摘要：为抑制氧化镓晶片在研磨过程中的解理现象,通过NAKAMURA的方法,重新设计、研制一种黏弹性固着磨料新型研磨垫对氧化镓晶片进行研磨实验研究,对比分析其与传统铸铁研磨盘对单晶氧化镓研磨的材料去除率和表面质量的影响规律,结果表明:在同一研磨参数下,采用铸铁盘研磨时,晶片材料去除率较高,为358nm/min,研磨后晶片表面粗糙度Ra由初始的269nm降低到117nm,降幅仅为56.5%;而采用新型研磨垫研磨时,其材料去除率虽较低,为263nm/min,但研磨后晶片表面粗糙度Ra却降低至58nm,降幅达到78.4%,晶片表面质量得到明显提高,为后续氧化镓晶片的抛光奠定了良好的基础,因而新型研磨垫更适合对氧化镓进行研磨。同时,也为氧化镓晶片研磨提供了参考依据。

摘要：针对材料成型与控制工程专业模具设计制造实践教学开展难度大、实物实训运行与维护费用高、场地受限等问题,本文首先分析了实践教学的现实困境,基于虚拟仿真技术、计算机网络技术和多媒体技术等,提出虚实结合的模具设计制造实践教学体系的建设要素及其对实践教学的提升作用。然后从"细分三层能力结构"、"五项结合"的实践教学运行模式、"能力主线"的课程方案和实践教学质量保障机制等方面,重点论述虚实结合的实践教学体系的改革及建设方案,深耕模具设计制造实践教学的本质,就虚实结合的实践教学内容和具体实施方法展开研究。与此同时,应用型地方本科高校虚实结合的模具设计制造实践教学体系建设还需要坚守信息化、智能化的办学理念,面向区域校企联合共建。

摘要：基于卓越工程师教育培养计划的要求,剖析了目前《机械设计》课程教学中存在的理论教学与行业发展相脱节、实践教学与工程应用相脱节、课程设计与创新能力培养相脱节等问题。结合CDIO工程培养理念,对《机械设计》课程,从理论教学信息化、实践教学项目化、师资队伍建设多元化、机械创新活动普及化、学习评价多样化等五个方面开展教学改革,并取得了初步的成效。

摘要：柔性机构具有免装配、无摩擦、免润滑的优点,可实现微米级甚至纳米级的高精度,因此设计一种用于压电精密驱动的柔性机构具有重要意义。对柔性梁和柔性铰链的尺寸进行了理论设计,通过柔性机构的伪刚体模型分析了影响柔性机构输出特性的主要因素,利用有限元软件分析了不同受力状态下柔性机构的输出特性。

摘要：分析了目前高校在大学生创新能力培养中存在的问题,提出了建立大学生创新设计平台的必要性,阐述了大学生创新设计平台的架构和内容,并通过实践验证了该创新设计平台的建设成效。

摘要：通过与西门子公司的深度合作,将机械行业的NX系统高端软件,融入机械类专业四年本科教学的人才培养体系,使智能化设计制造技术与机械类专业人才培养有机结合。运用NX系统软件将智能化设计制造类工程项目系统训练的经验与成果,引入到机械设计课程设计的教学实践中,形成了有别于其他GO PLM计划(西门子和高校合作计划)高校的特色课程设计教学模式。

摘要：利用柔顺结构和压电叠层元件的优点,在分析常见柔顺机构的基础上,提出一种压电驱动的柔顺5杆机构。研究该机构各部件的位移输出特性,得到5杆机构顶端的椭圆运动轨迹方程;通过搭建振动位移测试系统,测得该5杆机构顶端的振动位移曲线,验证该柔顺5杆机构可用于精密位移致动器的设计。