摘要：近来的研究表明,TiO2缓蚀添加剂能有效减缓蒸汽发生器传热管的应力腐蚀开裂(SCC)和晶间腐蚀(IGA)等局部腐蚀。本工作以不锈钢为试验材料,对含Ti缓蚀添加剂在高温浓碱环境中缓解应力腐蚀开裂的能力进行了初步的研究。高压釜暴露实验表明,在288℃、50%NaOH溶液中浸泡一周,含Ti缓蚀添加剂表现出较好的缓蚀效果。其中,锐钛矿、金红石型TiO2的作用要好于钛酸丁酯;但在相同环境下长时间(两周以上)浸泡,其抑制应力腐蚀开裂的能力并不显著。用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)等手段进行进一步的表面分析,研究了腐蚀产物形貌及结构,并探讨了合金在碱性环境中的去合金化趋势。XPS纵深图谱表明锐钛矿型TiO2能明显抑制合金的去合金化趋势,防止裂纹沿贫Cr的晶界发展,从而起到缓解腐蚀的作用。

摘要：近来的研究表明,添加TiO2缓蚀剂能有效减缓蒸汽发生器传热管的应力腐蚀开裂(SCC)和晶间腐蚀(IGA)等局部腐蚀,延长蒸汽发生器的使用寿命。本研究以不锈钢为试验材料,对含Ti缓蚀添加剂在热浓碱环境中缓解应力腐蚀开裂的能力进行了初步的电化学研究。结果表明,在热浓碱环境中,含Ti缓蚀剂对不锈钢碱蚀有一定缓蚀效果,而不同浓度的缓蚀剂的缓蚀效果差别不明显。

摘要：主要研究了磁控溅射Nb层厚度与基体Zr-4合金之间附着力的关系,并对涂层的生长和经溅射后出现的一些现象进行了讨论。

摘要：为了研究氢进入钛合金试样后对其力学性能的影响,探索氢在钛合金中的行为,本文用电解渗氢方法对Ti-Al-Zr合金进行了渗氢处理,得到了不同含氢量的试样.在室温下进行了试样的拉伸、冲击实验.结果表明,试样渗氢后的强度得到不同程度的提高,这是固溶强化的结果;试样的塑性随氢含量的提高而下降,当氢含量达到～1200μg/g时,塑性损失达到25%;试样的冲击韧性随氢含量的提高而下降,试样中氢含量达到～300μg/g时,冲击韧性下降～80%,试样已基本上呈脆性.使用SEM研究了渗氢样品的断口形貌后发现,拉伸试样中只有少量二次裂纹,而冲击试样有大量二次裂纹产生,并伴有准解理特征.

摘要：用X射线衍射仪(XRD)、X射线电子谱仪(XPS)和原位俄歇电子谱(AES)法研究了Ti-Al-V合金在300℃pH9的水中氧化13000h所形成的氧化膜的结构、成分和价态以及其随深度的变化。发现氧化膜是由TiO2、Al2TiO5、Ti3O5、Ti2O3和TiO所组成,并且,氧化膜由表面到基体基本是按以上顺序交迭构成。通过XPS和原位AES分析发现钛合金表面形成稳定的厚约500nm的Ti4+(TiO2)层,随深度的增加出现了Ti3+(Ti3O5、Ti2O3)和Ti2+(TiO),直至基体,氧化膜总厚度约3000nm。

摘要：评述了铌含量对锆合金组织和耐蚀性的影响，认为含铌量是锆合金耐蚀性的重要控制因素，并影响基体晶粒的大小；时效退火析出的第二相粒子的类型、分布和体积分数随铌含量的增加而变化；一定条件下，Zr-x％Nb系合金的基体含铌量接近于平衡固溶度时，锆合金具有较好的耐蚀性。

摘要：介绍了锆合金的表面处理技术,讨论了各种表面处理技术对于锆合金表层结构和合金元素分布的影响及改善锆合金性能的机理,提出了进一步研究的建议。

摘要：经完全退火处理的Ti-A l-Zr合金表面注入不同剂量的N离子,并在pH值为10的溶液中进行电化学腐蚀试验。结果表明,N离子注入后,试样表面首先形成具有四方结构的-εTi2N,随着离子注入剂量的增加,四方结构的-εTi2N逐渐向立方结构的σ-TiN转变,X射线光电子能谱的分析结果也证实了这一变化过程;N离子的注入能明显改善Ti-A l-Zr合金表面的耐腐蚀性能,且在注入8×1016ion/cm2时得到最佳的耐腐蚀性。根据原子碰撞理论对电化学腐蚀实验结果进行了理论分析。

摘要：本文通过对单塔汽提装置汽提塔腐蚀泄漏案例分析,从工艺流程,腐蚀环境,腐蚀形貌,操作参数变化等方面,分析汽提塔腐蚀泄漏原因主要是操作压力略高出设计压力,硫化氢在水溶液中的分压增大,进而在局部产生酸性水腐蚀和湿硫化氢应力腐蚀开裂等腐蚀环境,引发焊缝热影响区腐蚀开裂,产生细小裂纹并发生泄漏。为避免此类腐蚀影响装置正常生产,建议及时调节汽提塔操作压力,升级汽提塔材质等级,同时加强测厚。

摘要：利用原位 AES深度分析 ,XRD,和 XPS方法研究了 Ti- 2 Al- 2 .5 Zr合金在 30 0℃碱性水中氧化 130 0 0 h所形成的氧化膜的结构、成分和价态 ,及其随深度的变化。结果表明 ,氧化膜是由板钛型 Ti O2 、Al2 Ti O5(Ti O2 ·Al2 O3) ,Ti3O5,Ti2 O3和 Ti O所组成 ,氧化膜由表面到基体基本是按以上顺序交迭构成。通过 XPS和原位 AES分析发现钛合金表面形成由 Ti O2 ,Al2 Ti O5(Ti O2 ·Al2 O3) ,Ti3O5组成的较为稳定的厚约 80 0 nm的 Ti4 + (Ti O2 )层 ,随深度的增加出现了 Ti3+ (Ti3O5,Ti2 O3)和 Ti2 + (Ti O) ,直至基体 ,氧化膜总厚度约 30 0 0 nm。