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提高cMP抛光垫修整性能的方法: 收藏
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引用; 《功能材料与器件学报》2013年第3期19卷 131-135页; 作者：S.Dhandapani c.c.garretson S.S.chang J.G.Fung S.TsaiApplied MaterialsInc.; 抛光垫修整臂的新设计能在抛光垫和修整盘对使用寿命期间,采用闭环控制(cLc)提高修整性能。测得的抛光垫修整器的力矩用于在现场实时监控修整和抛光过程。通过调节修整器的下压力以补偿工艺的偏移(例如,随修整盘老化而引起的金刚石研磨...; 抛光垫修整臂的新设计能在抛光垫和修整盘对使用寿命期间,采用闭环控制(cLc)提高修整性能。测得的抛光垫修整器的力矩用于在现场实时监控修整和抛光过程。通过调节修整器的下压力以补偿工艺的偏移(例如,随修整盘老化而引起的金刚石研磨性的损失),cLc系统在整个抛光垫使用寿命期间维持工艺性能。; 来源：详细信息评论

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