摘要：Both bismuth and copper are non-toxic and earth-abundant elements suitable for lead-free halide perovskite-like photovoltaic devices. Here, we report a highly facile route for in-situ producing copper-bismuth-iodide(CuBiI4) thin films directly on ITO substrate at room temperature, by utilizing a Bi-Cu alloy layer as precursor. X-ray diffraction and transmission electron microscopy(TEM) results verified the formation of well crystallized CuBiI4 thin films with [222] orientation. The transient photovoltage(TPV) analysis revealed that the CuBiI4 is an n-type semiconductor with a suitable band gap of ~1.81 eV, preferable to photoelectric conversion compared with CH3NH3PbI3. It is very interesting that the subsequent spin-coating process of the classical Spiro-MeOTAD organic solution with TBP and acetonitrile resulted in a dense and smooth CuBiI4:SpiroMeOTAD bulk-heterojunction film. The preliminarily fabricated simple sandwich structures of ITO/CuBiI4:Spiro-MeOTAD/Au hybrid solar cell devices displayed efficient photovoltaic performance with the PCE up to 1.119% of the best sample. The room temperature direct metal surface elemental reaction(DMSER) method may provide a new insight for all-inorganic lead free perovskite-like AaBbXx compounds and high performance photovoltaic devices.

摘要：为了探讨注意资源对内隐记忆提取干扰效应所产生的作用,本文在实验1采用学习-测验范式,通过在提取阶段设置干扰任务,考察提取干扰对内隐记忆的影响;实验2使用Stroop范式在提取阶段设置不同难度的干扰任务考察干扰任务的难度对内隐记忆提取干扰的影响。结果发现,提取干扰破坏了内隐记忆,并且干扰任务的难度会调节内隐记忆提取干扰效应的大小。说明内隐记忆会受到提取干扰任务对注意资源竞争的调节,并非完全的自动化加工。

摘要：目的设计优化3-OH根皮苷酶法制备工艺,探究3-OH根皮苷体内抗白癜风活性,为实现3-OH根皮苷的量产及白癜风防治提供科学依据。方法以湖北海棠嫩叶水提液中根皮苷为底物,在含抗坏血酸、多酚氧化酶(PPO)粗酶液的体系中制备3-OH根皮苷。以3-OH根皮苷的摩尔产率为指标,选取根皮苷浓度、pH、温度、反应时间、抗坏血酸浓度、酶浓度、搅拌速度等因素,通过单因素试验、普拉克特-伯曼(PB)试验、最陡爬坡试验、中心综合设计(CCD)-效应面法等方法,优化3-OH根皮苷制备工艺条件,反应体系放大至250 L验证制备工艺可行性。外用氢醌乳膏涂抹C57BL/6小鼠背部皮肤构建白癜风模型,连续造模75 d,造模第20天将小鼠随机分为空白组、模型组、阳性药8-甲氧补骨脂素组(8-mop,4.25 mg·kg^(-1))、3-OH根皮苷低、中、高剂量组(10、20、40 mg·kg^(-1)),灌胃给药55 d,各组小鼠每5d脱毛1次,同时对造模区域进行摄像,毛发脱色评分。给药结束后摘眼球取血,使用试剂盒检测小鼠血清酪氨酸酶(TYR)、胆碱酯酶(CHE)活性、丙二醛(MDA)含量。取小鼠背部皮损处皮肤,切片经苏木精-伊红(HE)染色,在光学显微镜下观察50个毛囊,对含有黑色素的毛囊进行计数。结果3-OH根皮苷的最佳制备工艺为:根皮苷1.70 mmol·L^(-1)、反应时间6.0 h、PPO浓度25.0 U·mL^(-1)。放大实验,反应液经大孔树脂除杂,浓缩,干燥得纯度为70.32%的3-OH根皮苷粗品334.80 g,提取率为8.37%,进一步分离纯化可得到纯度为98.10%的3-OH根皮苷纯品,得率为68.50%。体内活性实验表明,与模型组相比,3-OH根皮苷低、中、高剂量组小鼠毛发脱色情况显著改善,毛发脱色评分显著降低(P<0.05)、血清MDA含量、CHE活性显著降低(P<0.05),含黑色素毛囊个数、血清TYR活性显著上升(P<0.05)。结论可通过湖北海棠嫩叶水提液酶法高效提取制备3-OH根皮苷,且具有量化生产的可行性。3-OH根皮苷具有治疗白癜风的活性,其作用机制与提升酪氨酸酶活性,增加黑色素合成;改善氧化应激损伤,延缓白癜风的发展相关。

摘要：目的 观察通补法对腹腔镜术后胃肠功能恢复的效果。方法 采用前瞻性研究设计选取2022年1月—2022年12月威海市中医院收治的180例腹腔镜患者,随机分为对照组(常规护理)、中药汤剂组(口服中药)、联合组(中药口服、揿针、拔罐),各60例。观察术后胃肠蠕动恢复时间,恶心呕吐程度,腹胀情况。结果 联合组术后0~6 h和6~12 h恶心呕吐发生例数少于中药汤剂组(P<0.05)和对照组(P<0.05);联合组术后胃肠蠕动恢复时间短于中药汤剂组和对照组;联合组恶心呕吐分级、腹胀程度分级均轻于对照组(P<0.05)和中药汤剂组(P<0.05)。结论 通补法理论指导下的中医治疗对腹腔镜术后胃肠功能恢复作用显著,可减轻患者症状,提高生活质量。

摘要：针对衍射光栅刻划机开环控制的定位精度不能满足指标要求的问题,在刻划机已有的状态和结构下,设计了微定位系统的控制器。首先,介绍了衍射光栅刻划机,分析了微定位系统及其定位精度指标。然后,运用系统辨识的方法,设计了微定位系统的扫频实验,建立其数学模型。接着,提出了在已有数学模型的基础上,运用实际测量数据和MATLAB/Simulink软件仿真试凑来设计控制器的方法,并设计了满足精度指标要求的控制器。最后,将设计的控制器应用于微定位系统并进行模拟刻划实验,实验结果可知:所设计的微定位系统控制器定位精度基本满足指标要求,其中峰-峰值小于40 nm,RSM值总体略大于2.8 nm。

摘要：衍射波前质量是刻划光栅的重要性能指标之一,对于机械刻划光栅,刻划机的刻线定位精度直接影响光栅的波前质量。建立了刻划机固有存在的刻线位置和转角误差与光栅衍射波前误差间的数学关系,分析了各误差对衍射波前质量的影响。针对该误差设计了一种基于双频激光干涉测量的刻划机刻线位置和转角误差测量的光路,并提出了一种主动控制技术,即采用单压触动器校正刻线位置和转角误差的方法。根据该校正方法设计了刻划机的双层光栅承载工作台结构,并进行了尺寸为80 mm×60 mm、刻线密度为194 line/mm的光栅刻划实验。实验结果表明,刻划光栅的衍射波前误差由0.23λ降低至0.093λ(λ=632.8 nm),并且原子力显微镜测试光栅刻槽质量符合理论设计要求。

摘要：光栅刻划机工作台性能及其控制算法是直接影响大面积光栅刻划精度的重要原因。为了提高光栅刻划机运行精度,研制了采用压电陶瓷进行微定位控制的300mm行程宏微两级工作台,建立了微定位工作台数学模型,仿真分析了工作台参数对系统动态性能的影响。采用反向传播(BP)神经网络比例-积分-微分(PID)算法对微定位工作台进行闭环控制。仿真分析表明通过增大内外台连接刚度或内外台之间阻尼在总体趋势上均可改善与光栅质量密切相关的微定位工作台动态性能。工作台定位实验表明,在以双频激光干涉仪为纳米位移测量基准的情况下,进行刻线密度为35line/mm以上常用光栅空运刻划时,BP神经网络PID算法可实现宏微两级工作台定位误差3σ值不大于5.0nm。以上研究为大尺寸光栅刻划机宏微两级工作台结构设计及控制算法的选择提供了理论及技术指导。

摘要：大光栅刻划机若存在摆角误差,将直接影响刻划光栅的波前质量。首先,计算得到李特洛设置下的摆角误差与波前质量的映射关系。其次,论述了双压电触动器校正摆角的工作原理,并设计了摆角测量光路,测量在该结构下工作台的摆角校正能力。最后基于以上结构对工作台进行刻划实验。结果表明在具有400×500光栅刻划能力的刻划机上,采用双压电触动器校正工作台摆角误差,能够满足±5μm行程范围内±2″校正范围的要求;实验表明摆角误差校正后工作台的偏转角度由0.42″降低至0.02″,校正后的摆角误差相比于校正前降低了95.24%,满足对工作台摆角校正精度的要求,提高了光栅的波前质量。以上实验结果为刻划出高精度大面积光栅提供了基础保障。

摘要：衍射波前质量是衡量刻划光栅性能的重要指标之一,光栅刻划机若存在阿贝误差,将直接影响刻线位置精度,从而影响光栅的波前质量。建立了刻划机阿贝误差与光栅衍射波前质量的物理模型,并分析了该误差对波前质量的影响。针对该误差设计了一种基于双频激光干涉测量的阿贝误差测量光路,测量了刻划机的阿贝误差,根据物理模型对其导致的光栅衍射波前误差作了仿真分析,并提出了基于双层工作台结构的误差控制校正方法。对两块尺寸为80mm×100mm、刻线密度为79groove/mm的中阶梯光栅进行了阿贝误差校正前后的对比刻划实验。结果表明,通过对阿贝误差的测量和校正,光栅闪耀级次为-36级的衍射波前误差由0.529λ降低至0.159λ(λ=632.8nm),有效地降低了阿贝误差对光栅衍射波前质量的影响。

摘要：尝试在大型衍射光栅刻划机中使用气浮导轨承载金刚石刻划刀具系统运行。气浮导轨同时承担刀具系统的承重与导向任务,由于使用气体作为润滑剂而接近零摩擦状态,可以避免触点磨损及低速爬行现象。分析了气浮导轨工作过程中产生的误差及该误差对刻划刀具运动轨迹的影响,并使用双频激光干涉仪测量刻划过程中刻划刀具运动的直线度误差。测量结果表明,金刚石刀具系统单向行程400 mm时,该误差约为200 nm,小于使用石英导轨承载刀具系统时的误差,同时在高频振动方面有明显改善。刻制一段79 gr/mm,400 mm×500 mm的中阶梯光栅,观察其衍射光斑并使用照度计检测得其不同位置杂散光强度为0.2‰~5‰,实验结果表明使用气浮导轨承载刻划刀具可以满足光栅刻划精度要求。