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氢辅助脉冲直流溅射沉积的碳化硼薄膜的红外光学性质与机械性质的研究
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《功能材料》2020年 第7期51卷 7039-7044页
作者:陈儒婷 SHIGENG SONG DES GIBSON lewis fleming SAM AHMADZADEH HIN ON CHU XIAOLING ZHANG西安工业大学光电工程学院西安710061 Institute of Thin Films Sensors and Imaging School of Computing Engineering and Physical Sciences University of the West of Scotland Paisley PA12BE UK Teer Coatings Ltd West Stone House West Stone Berry Hill Industrial Estate Droitwich Worcestershire WR9 9AS UK 
采用氢气为辅助气体,在不同氢气流速下用微波等离子体辅助脉冲直流磁控溅射系统制备碳化硼薄膜。碳化硼薄膜的设计厚度为1200 nm,过渡层非晶硅的设计厚度为500 nm。所用的基板为载玻片、Ge、Si、Si wafer、GaAs和JGS3。之后,采用傅里叶...
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