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原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立: 收藏
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引用; 《光电工程》2004年第1期31卷 5-8页; 作者：陈献忠姚汉民陈旭南李展陈元培高洪涛石建平中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都610209; 原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用.在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备.主要设计参数为:极限真空度和工作真空度分别为2.0×10-6 Pa 和1.0×10-5 Pa,原子...; 原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用.在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备.主要设计参数为:极限真空度和工作真空度分别为2.0×10-6 Pa 和1.0×10-5 Pa,原子源温度在300～1850℃范围内连续可调.初步运行结果表明极限真空度优于设计参数,温度连续可调.; 来源：详细信息评论

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