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电弧离子镀沉积磁性薄膜的研究
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《金属学报》2012年 第5期48卷 547-554页
作者:常正凯 肖金泉 陈育秋 刘山川 宫骏 孙超中国科学院金属研究所沈阳110016 
研究了电弧离子镀磁性靶材使用过程中发生"跑弧"并导致靶材无法稳定刻蚀的问题.利用有限元方法(FEM)对外加磁场下非磁性靶材系统和磁性靶材系统中的磁场分布进行了模拟.研究了外磁场对电弧斑点运动的影响机理,并结合电弧斑点...
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