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相变存储器预充电读出方法
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《浙江大学学报(工学版)》2018年 第3期52卷 531-536,568页
作者:雷宇 陈后鹏 王倩 李喜 胡佳俊 宋志棠中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室上海200050 
分析传统相变存储器读出方法读取速度受限的原因,提出一种预充电读出方法.该方法将本地位线充电到预充电电压后开始读取数据.预充电电压设置在第一参考电压和第二参考电压的中间值.第一参考电压为读取最高晶态电阻值的存储器件时的本地...
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基于相变单元测试的高速可编程脉冲电流源
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《固体电子学研究与进展》2017年 第1期37卷 26-31页
作者:胡佳俊 陈后鹏 王倩 李喜 雷宇 苗杰 宋志棠中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室上海200050 
基于相变单元电压操作的局限性,提出一种电流编程操作的方法。针对纳秒级快速相变的需求,设计了一款高速可编程的脉冲电流源,采用0.35μm标准CMOS工艺。结果显示:在10MHz编程速度的条件下,驱动脉冲电流能够良好地跟随控制信号的脉冲波形...
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具有场帧检测的自适应帧频提升算法及VLSI实现
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《西安交通大学学报》2002年 第2期36卷 143-146页
作者:吴勇 郑南宁 张光烈 王少瑞西安交通大学人工智能与机器人研究所西安710049 
提出一种隔行到逐行自适应帧频提升算法和该算法的芯片设计方法 .该芯片采用了具有场帧检测的隔行到逐行自适应帧频提升算法 ,实现了可调的隔行到逐行帧频提升 ,而且该芯片综合应用了黑 /白电平扩展、图像边缘保持的二维滤波、彩色瞬态...
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基于均匀设计方法的热板研究
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《机械设计与制造》2012年 第5期 121-123页
作者:王靖震 刘伟军中国科学院沈阳自动化研究所沈阳110016 中国科学院研究生院北京100049 
光刻工艺中对热板表面的温度场均匀性有着极高的要求。在热板设计参数的选择问题上,通过使用均匀实验设计的方法,从均匀分散性的角度出发挑选代表点,并对这些代表点应用ANSYS仿真模拟软件进行分析,得到不同设计参数情况下的热板表面温...
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低功耗DDR高速信号的封装布线方案设计及信号完整性分析
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《现代电子技术》2015年 第19期38卷 135-139页
作者:秦征 尚文亚 于大全中国科学院大学北京100049 中国科学院微电子研究所北京100029 
不同于印制电路板的制作工艺,芯片封装基板的走线更细,线间距更窄。狭小的布线空间使传输线效应更为明显,而且封装设计的好坏直接影响芯片是否可以正常工作,同时芯片成本的控制要求布线层尽量要最少。这些问题使得高速信号布线面临严峻...
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一种用于宽带系统的可重构模拟基带电路
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《复旦学报(自然科学版)》2010年 第6期49卷 764-770页
作者:樊锦涵 李巍 李宁 任俊彦复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室上海201203 
介绍了一种应用于宽带系统中的可重构模拟基带电路.该电路采用全CMOS工艺,由低通滤波器和可变增益放大器2个模块构成.低通滤波器可通过模拟控制电压调谐转折频率,调谐范围130~430 MHz,不仅兼容了WiMedia与中国标准,而且适用于更高频率...
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电池监测芯片中稳压模块的设计
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《电子技术应用》2016年 第6期42卷 132-135页
作者:张萌 林敏 程新红 李新昌 吴忠昊中科院上海微系统与信息技术研究所上海200050 中国科学院大学北京100049 
设计了一款应用于电池监测芯片内的稳压模块,为芯片内部电路提供模拟电源电压与数字电源电压。通过带隙电路产生稳定的模拟电源电压,数字电源电压则通过栅源电压差叠加的方式获得。采用XFAB 0.35μm工艺模型仿真表明,在负载电流4 mA,外...
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可修调的高阶曲率补偿基准电压源
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《微电子学》2014年 第6期44卷 759-762,766页
作者:万文艳 程新红 宁振球 董春雷中国科学院上海微系统与信息技术研究所汽车电子工程中心上海200050 
设计了一款带有误差放大器和电阻修调电路的分段曲率补偿基准电压源。通过分段电流补偿降低了温度系数;采用数字修调网络和熔丝修调网络,减小了电阻随机误差;采用误差放大器提高了电源抑制比,使基准电压精度得到显著提高。电路基于XFAB ...
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一种新型的快速多分辨率频谱感知电路设计
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《复旦学报(自然科学版)》2010年 第6期49卷 771-778页
作者:闵卿 李宁 李巍 任俊彦复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室微纳电子科技创新平台上海201203 
设计了一种改进型的多分辨率频谱感知电路,用于认知无线电的快速感知功能.传统基于窗函数的多分辨率频谱感知方法的探测时间和探测频谱精度相互制约,针对这个缺点,在系统架构上予以改进:通过在窗函数相关前增加可重构滤波器进行预滤波...
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基于Logistic回归的湿法刻蚀腔体气流场参数分析
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《机械设计与制造》2012年 第6期 223-225页
作者:王靖震 刘伟军中国科学院沈阳自动化研究所沈阳110016 中国科学院研究生院北京100049 
在湿法刻蚀腔体中,为使气流场中的微颗粒物顺畅的流出刻蚀腔体,减小对晶圆片的微粒污染程度,应该避免气流场中产生涡流。针对避免在气流场中产生涡流这一问题,应用FLUENT仿真模拟软件,通过使用正交试验设计的方法,得到不同工艺参数情况...
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