摘要：针对工艺参数变化的情况,提出一种成品率驱动的时钟偏差安排算法.提出统计时序约束图的概念,利用统计时序分析的结果将时序电路转换为统计时序约束图;将寻找关键环问题转换为最小费用/时间比值环问题,并按比例分配关键环中的时钟偏差的安全余量.实验结果表明,该算法有助于提高集成电路的成品率.

摘要：设计合成了 14个含不同性质取代基的黄烷酮类化合物 ,并采用核磁共振氢波谱、质谱和元素分析对所有化合物的结构进行了表征 .在系统测定化合物对水稻稻瘟病抑制活性的 IC5 0 值的基础上 ,采用H ansch- Fujita方法和 Co MFA方法对其定量结构活性关系进行了系统研究 ,结果发现 ,化合物的疏水性质、极化效应以及最高空轨道能级对杀菌活性有重要影响 ,化合物的疏水参数越小 ,分子越容易极化 ,则化合物的杀菌活性越高 .此外 ,最高空轨道能级越低 ,化合物越容易接受电子 ,其杀菌活性也相应提高 .通过考察∑ π、clg P以及 lg K与化合物杀菌活性的相关性 ,发现 lg K能较好地反映该类化合物的疏水效应 .三维定量构效关系研究表明 ,B环 2 ,3,4位上含有较大体积的取代基 ,而 6位含较小体积的取代基 ,有利于提高其杀菌活性 .

摘要：提出了一种综合考虑多种因素影响的等效拉延筋阻力的模拟计算方法,编制了相应的计算程序。在该方法中,采用平面应变假设,针对不同的材料类型,选用不同的屈服准则,考虑了Bausch inger效应、应变速率敏感性、板料变形过程中板厚的变化以及中性层偏移等多种因素对拉延筋阻力的影响。通过与经典的N ine试验数据进行比较,验证了该方法的有效性。

摘要：在考虑工艺偏差影响的统计静态时序分析中,针对求解多个随机分布最大值(MAX)的关键问题,提出一种快速MAX算法.该算法将统计输入下的MAX问题转换为求解一组离散配置点上的确定性MAX问题,并用带权最小二乘来计算MAX输出多项式的系数;基于稀疏网格技术有效地减少配置点数,提出输入端缩减技术,进一步提高了MAX的计算效率.ISCAS85基准电路的实验结果表明,该算法较已有的二阶矩匹配算法和基于降维的随机Galerkin算法明显地提高了精度,且效率相当;与10 000次蒙特卡罗的结果相比,中值和方差的相对误差基本小于5%,且有100倍的速度提升.

摘要：针对饱和软黏土地基上桶形基础结构,基于弹塑性极限分析中的上限法,建立了一种竖向荷载作用下桶形基础的极限分析模型。采用有限元数值分析解验证了所提出极限分析模型的可行性和有效性,进而,据此进行了一系列变动参数比较计算,以此对大量的计算结果进行了系统的分析,所得到的数值计算结果与分析结论为工程设计提供参考依据。

摘要：分析了在高速高精度加工中设计高性能运动控制器时存在的问题及面临的挑战 ,评述了高性能数控系统运动控制器设计方法的发展现状 。

摘要：　提出了时间上串行的多路激光脉冲通过受激布里渊散射(SBS)池进行组束的方法,并对其进行了数值模拟研究。利用6束每束能量为45J的KrF激光进行组束,可获得能量为141.89J,脉宽为670ps的Stokes输出光。根据模拟结果设计出了时间上串行的SBS激光组束的两个方案,对其进行了讨论。数值模拟还发现在介质的增益系数更大、声子寿命更短的情况下,输出激光脉冲的脉宽可以压缩得更窄。

摘要：在面向分组业务的全光交换系统中 ,采用全光地址处理技术可以减少处理时延 ,大大提高信息处理速度和网络吞吐量 ,对全光网络的研究具有重要意义。分析了光正交码的自相关性与互相关性 ,并将其特性应用于全光传送网中 ,以针对未来基于光分组业务的全光环网为例 ,提出了一种光分插复用器的新型结构 ,给出了总体应用设计规则 ,重点研究和分析了全光地址识别机理和相关的应用设计方法 ,给出了针对全光环网组网规模的仿真分析结构和基本实验结果。结果表明采用所提出的设计原则和设计方法来实现全光地址识别是可行的。

摘要：初步设计14xxnm锥形增益区脊形波导量子阱激光器材料和器件结构,利用MOCVD生长14xxnmIn-GaAsP/InP量子阱激光器外延片,引入腔破坏凹槽(cavity-spoilinggrooves)将有源层刻蚀断以隔离从锥形区反向传输回的高阶模,进一步改善远场光束质量.保持总腔长1900μm不变,改变脊形区的长度,其长度分别为450,700和950μm.对比三种情况的最高输出功率和远场特性,发现LRW=700μm时,器件特性参数和远场光束质量最优,斜率效率为0·32W/A,饱和输出功率为1·21W,其远场为近衍射极限的高斯分布,发散角为29°×9·6°.当固定脊形区长度为700μm,改变锥形区长度,发现当锥形区长度为1000μm时,器件特性参数进一步提高,斜率效率达0·328W/A,饱和输出功率为1·27W,远场仍为近似高斯分布.

摘要：本文针对当前普通镀膜玻璃存在的光污染问题,从产生光污染的本质原因出发,介绍了两种目前较行之有效的解决方案,一种是通过增加漫反射和散射的方法来达到消除光污染的目的,另一种是通过减反射的方法来达到消除光污染的目的.希望对彻底解决光污染难题有所帮助.