摘要：针对河内污染物转化的荧光强度波动性很大,极易受到外界干扰,采集的实时性和准确性很差;提出一种基于S3C2410的嵌入式水污染弱荧光数据采集系统;为了采集弱荧光信号,系统的硬件使用光电倍增管,前置放大器的增益和光电倍增管的测量灵敏度可以针对不同强度的光实现可调,配合S3C2410核心芯片配合增强型神经网络的软件设计,保证采集的准确性;高精度测量模块实现相对误差小于0.5%的弱荧光强度测量,大幅降低荧光采集的误差,提高荧光数据采集的准确性,保证了系统的实时性和良好的应用性。

摘要：为研究反击式破碎机达到最佳破碎效果时的参数组合条件,通过建立其三维分析模型,借助EDEM离散元分析软件,创建矿石的黏结破碎模型,以黏结键破坏数目为反击式破碎机破碎效果的评价指标,对其转子转速、导板卸载点α、导板倾角β3种影响因素进行了仿真分析。正交试验和回归分析得到了对反击式破碎机破碎效果影响最大的试验方案及3种影响因素的主次顺序,一定程度上验证了离散元仿真软件的可靠性,为反击式破碎机优化设计提供了依据。

摘要：分析PYB900型圆锥破碎机层压破碎过程,发现其动锥衬板在多因素共同影响下具有极其复杂的受力特性。从该型圆锥破碎机实际几何参数和工作参数出发,利用离散元软件EDEM对其简化,构建几何模型并进行仿真试验,得到不同动锥旋摆速度下其衬板的受力数据,并通过与有限元软件ANSYS耦合,求解得到直观的衬板应力、变形云图,然后进行分析讨论,为破碎设备关键部件的改进设计提供一种新思路。

摘要：采用自行改进设计的外循环厌氧反应器处理太湖蓝藻,研究其快速启动过程中运行效能以及颗粒污泥微生物特性。实验结果表明:反应器采用'投加接种污泥、阶梯提高负荷连续运行、间歇搅拌'的启动运行方式,可以在35d左右实现蓝藻成功处理。启动成功时,反应器对蓝藻化学需氧量(COD)去除率在85%左右,产气率在380ml·(g COD)-1左右,藻毒素的去除率达到92%;颗粒污泥中菌群以球菌、丝状菌为主,颗粒污泥内丰富的空穴为物质迁移和微生物降解提供通道。反应器启动成功后颗粒污泥中主要优势产甲烷古菌为Methanosphaera,Methanolinea,Thermogymnomonas,Methanoregula,Methanomethylovorans,Methanosaeta等;颗粒污泥中蛋白酶及辅酶F420的活性较强。研究发现间歇搅拌装置及回流系统克服蓝藻在反应器中上浮结壳的弊端,同时加快反应器内传质效果,从而有助于反应器的快速启动。

摘要：探讨格栅反吸式圆笼除尘器的设计和应用效果。分析了复合式圆笼除尘器存在的不足之处,介绍了格栅反吸式圆笼除尘器的格栅式圆笼结构、气囊式密封圈设计和滤架风帽,并对比了改进前后的效果。结果表明:改进后使用半年耗电约6.5×104kW.h,电费约4万元。认为:改进后的除尘器能耗显著降低,其可靠性和稳定性较好,减少了企业运行成本。

摘要：以氧化铋、三氧化二铁、氯化钾和溴化钾为原料,采用熔盐法成功地合成了单晶铁酸铋粉体。通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、透射电子显微镜、Fourier变换红外-Raman光谱仪研究了材料物相、微观结构与制备条件关系,通过MPMS XL5型磁性测量仪测试样品磁性能。结果表明:当采用KCl-KBr熔盐,控制熔盐与原料质量比为1.0,750~800℃范围内可以得到单晶斜方六面体BiFeO3粉体,其晶粒尺寸约为0.6μm。基于模板形成机制,探讨了KCl-KBr熔盐合成BiFeO3机理。室温下,采用KCl-KBr熔盐、750℃煅烧2h的BiFeO3粉体显示了弱铁磁性能。

摘要：蓝宝石单晶衬底具有优秀的物理化学性质,作为LED的主要衬底材料,其晶片表面质量要求非常高,而加工工艺在很大程度上决定了表面质量。对蓝宝石衬底加工的各种工艺原理作简要介绍,如化学机械抛光、磁流变抛光、浮法抛光等,指出这些加工方法的优缺点、发展进程等。目前蓝宝石衬底的抛光质量已经达到:表面粗糙度0.1nm,平面度0.5μm。随着生产工艺的不断进步,数字化、全自动、绿色无污染的抛光工艺是未来蓝宝石衬底加工的发展方向。

摘要：介简单地介绍了发光二极管的发展历程,概述了LED用SiC衬底的超精密研磨技术的最新现状及发展趋势,阐述了研磨技术的原理、应用和优势。同时结合实验室X61 930B2M-6型研磨机,分析了加工工艺参数对研磨表面质量的影响,介绍了当前SiC衬底加工达到的精度水平,即SiC衬底表面粗糙度小于50nm,平面度和翘曲度均小于5,并提出了研磨加工将会向高精度、高效率的方向发展。SiC作为外延的最佳衬底,必将成为研究热点,未来SiC会向大尺寸、更低缺陷水平方向发展。

摘要：针对氧化镓衬底基片的化学机械抛光(CMP)进行了研究。介绍了氧化镓衬底基片的化学机械抛光工艺,讨论了影响抛光结果的因素:p H值、温度、压力、磨粒。通过大量的实验,最终确定了优化方案。提出先以粗抛光去除研磨后产生的划痕、凹坑等表面缺陷,再以精抛光降低表面粗糙度并获得高光洁衬底基片的方案。研究结果表明:在27℃抛光温度,9.0≤p H≤11的条件下,使用粒径为40nm,低分散度的Si O2溶胶磨粒,并加入适量添加剂,配合合理的工艺参数,可以获得具有良好表面质量的氧化镓衬底基片及较高的抛光去除率。

摘要：为解决内外犄角曲面喷涂时的犄角处涂层不均匀和涂料浪费问题,基于已有的喷枪模型,提出运用微分几何面积放大定理建立考虑喷枪倾角因素喷涂模型的方法,基于此模型给出了倾角喷涂三种情况下的喷枪轨迹优化目标函数,并运用黄金分割法进行求解,为倾角喷涂模型在喷涂轨迹优化中的应用提供了理论基础。仿真实验表明,喷枪倾角喷涂的建模方法有效;倾角喷涂轨迹优化方法可行,且涂层的均匀度受到喷枪倾角大小和方向的影响。