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193nm光刻胶的研制
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《感光科学与光化学》2005年 第4期23卷 300-311页
作者：郑金红 黄志齐 陈昕 焦小明 杨澜 文武 高子奇 王艳梅北京化学试剂研究所北京100022 
从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品...
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