摘要：为了减少二元光学元件设计的计算量并提高设计精度,在对现有算法机理进行深入分析的基础上,提出了适用于二元光学元件设计的两步模拟退火法.该算法在整个退火过程中采用先量化后优化的策略,并将优化过程分为两个阶段:搜索并锁定最优解区间;快速收敛到最优解.模拟实验显示,与传统设计方法相比,该算法不仅保持了全局寻优的特点,而且提高了稳健性和效率.算法剔除了对设计结果影响较大的量化误差,提高了设计精度.用此法实例设计了单焦面辐射聚焦元件,得到了与目标图像一致的光学实验结果.

摘要：本文采用杨 -顾相位恢复算法数值模拟设计了一个用于光盘读写头的二元光学元件 ,并构思了一种新型超分辨光盘读写头 ,在现有光盘读写头的激光波长处和数值孔径基础上 ,利用该二元光学元件实现光学超分辨 ,从而提高光盘存储容量 .

摘要：在激光诱导扩散中,需要利用二元光学元件对激光器输出的高斯光束进行整形,以实现曝光区的温度分布均匀化。为了得到二元光学元件的位相分布,采用免疫遗传对相位分布进行设计。免疫遗传算法中采取变频率的交叉操作、变异操作,克服了遗传算法在局部搜索解空间上效率差的缺点,并使算法跳出局部极大值的能力得到了增强。采取由正向记忆细胞库提取的免疫疫苗对抗体群进行接种,使群体的进化方向得到引导,提高了算法的进化效率;采取由反向记忆细胞库提取的劣化疫苗对抗体群进行反向接种,减少算法的重复运算,极大地抑制了群体退化;采用B、T细胞的作用机制,保持群体在进化过程中的多样性,很大程度上抑制了算法未成熟收敛。运算结果表明,免疫遗传算法较遗传算法具有更高的算法效率和更强的寻优能力。最后考虑到实际加工,对最优解做适当调整得到了更适合于实际加工的二元光学元件的位相分布。

摘要：提出了采用二元光学元件(BOE)进行三维形貌测量的新方法。设计二元光学元件产生空间二维点阵结构光,经物面调制后的点阵信息被相机一次获取,利用三角测量法得到物体的三维空间坐标。按该方法处理得到的结果与实际物体的形貌特征吻合。结果表明,按该测量系统具有便捷式功能,适用于三维照相等应用领域。

摘要：介绍了二元光学的产生和发展，着重阐述了二元光学元件之一的微透镜的设计、制作和测试方法以及它们的主要应用。

摘要：设计了用于将HeNe激光基模光束整形为环形光强分布的光束二元光学元件;并进行了实验分析,在实验中,主要改变输出面距BOE的距离L,测得输出面的衍射效率,并与数值计算相比对。

摘要：本文介绍了二元光学元件的薄膜沉积方法的优点及制作过程，并用该方法制作了单元数为20×20，透镜焦距为100mm，单元尺寸为0．8mm，工作波长为0．6328μm的8台阶微透镜阵列，并对微透镜阵列的台阶高度进行了测量，测量结果表明，不同台阶的高度几乎相同，其控制精度小于5nm。

摘要：采用二元光学方法，理论上可以对发光二极管光束进行任意形状的修正．针对要求在频谱面上得到均匀、圆对称的光强分布，介绍了用作整形的二元光学元件（ＢＯＥ）的设计、优化、制作过程，并用计算机完成了各种模拟计算．根据计算结果，制备了一块具有０，π位相的ＢＯＥ，测试结果很好地与预先要求相符．

摘要：本文运用矢量的扇形图示方法 ,分析了二元光学元件衍射图样的分布 ,并在该图示基础上推导了强度分布公式。该方法直观简便 ,表现了矢量图分析方法在解决衍射问题中的优点 ,对于设计和改善元件性能有一定实用意义。

摘要：在用二元光学原理将氦氖高斯基模光束转换成 TEM10 模的一维设计基础上 ,模拟计算了距离的变化对衍射效果的影响。计算结果显示 :在距离偏离设计值± 1 .5 mm时 ,模拟光强值与预期光强值的相对平均误差小于 1 .8% 。