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检索条件"主题词=互补金属氧化物半导体工艺"
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GPS导航接收机中可变增益放大器设计
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《导航定位学报》2019年 第1期7卷 98-102页
作者:黄敏 黄海生 李鑫 王嘉齐西安邮电大学电子工程学院西安710121 
针对GPS接收机易受不同传输距离和多路径衰减效应的影响使得接收的信号强度不固定的问题,基于TSMC0.18μm互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺设计一款可变增益放大器:它与脉冲宽度调制式自动增益控制和脉冲宽度译码器组成的自动增益控制电...
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基于标准CMOS工艺的Si基光发射器件
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《微纳电子技术》2008年 第10期45卷 615-618页
作者:黄春红 牛萍娟 杨广华 王伟天津工业大学信息与通信工程学院天津300160 
基于反偏雪崩击穿的发光原理,按照Chartered 0.35μm标准CMOS工艺要求,设计并制作了一种Si基光发射器件。在室温下对器件特性进行了初步测试,正向导通电压为0.75V,反向击穿电压为8.4V,能够在一个较宽的电压范围(8.4~12V)内稳定工作。...
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