摘要：传统光学成像系统设计中,主要通过将光学透镜面型复杂化、结构复杂化、使用特殊材料等实现像差校正,从而实现准确聚焦与成像的功能,这使得实际光学成像系统结构复杂、体积庞大,难以满足对现代光学系统小型化、轻量化、集成化等要求。此外,复杂面型、复杂结构的光学设计也使得光学元件加工设备和加工工艺面临着巨大的挑战。

摘要：根据惠更斯原理搭建了一台可分别测量晶体折射率各向异性的实验装置,并在室温至1200℃的温度范围内采用光位移法间接测定了蓝宝石在445 nm波长下的寻常光折射率no和非寻常光折射率ne,计算得到相应的热光系数为1.5793×10^(-4)K^(-1)和1.5517×10^(-4)K^(-1)。此外,基于第一性原理计算了蓝宝石的折射率等光学参数,相应的折射率变化规律与实验相近。实验与计算的结合验证了蓝宝石高温折射率数据的可靠性,为蓝宝石材料的开发应用和相关器件的性能优化设计提供了有效参考。

摘要：针对战场态势感知、环境污染监测以及应急减灾等领域对全天候、全天时遥感信息的应用需求,提出了一种可见光/红外一体化空间遥感成像方案,工作谱段覆盖可见光全色/多光谱、中波红外和长波红外,不同谱段的空间分辨率分别可达到为2 m/8 m、8 m和16 m,成像幅宽大于15 km。分析确定了光学系统技术指标参数,提出了可见光/红外共口径模块化光学系统设计方案,完成了各模块光学系统和整体光学系统的设计与分析。设计结果表明,各模块光学系统和整体光学系统的成像质量均接近衍射极限,各模块光学系统可进行单独装调和测试评价,有利于实现可见光/红外复杂光学系统的模块化研制,有效降低多谱段、多焦距、一体化复杂光学系统的研制难度和研制周期,具有较高的工程应用价值。

摘要：为满足精密测量等领域对半导体激光器的波长稳定性、相位噪声等指标的严苛要求,提出基于系统传递函数理论推导论证与仿真验证相结合的分析方法,并由此设计改进了一款半导体激光器的高稳低噪恒定电流驱动电路。绘制了电流驱动电路的交流小信号模型和交流通路,对电路参数和系统稳定性的关系进行了理论分析,并引入噪声抑制网络对电路进行改进,通过Tina-TI仿真验证了改善后的驱动电路在2 MHz带宽内的噪声抑制能力和稳定性。实验结果表明,恒流驱动电路在3 KHz~2 MHz宽带内交流噪声有效值为224 nA,连续驱动电流2.5 h稳定度优于1.904×10^(-6),1 h光功率积分时间1 s时的稳定度为1.177×10^(-5)。仿真与实验基本相符,驱动电路具有较高的稳定性和噪声抑制能力,同时,该分析方法对半导体激光器的超低噪声的驱动电路设计和优化具有普遍的理论指导意义。

摘要：系统工程方法在国内外以航空航天、国防科技和船舶工程等为代表的复杂设备系统的研发中发挥了重要作用。针对以光刻机为代表的先进半导体装备的研发,发展和提升以正向设计引领、以系统工程方法为指导的自主创新和设计制造一体化能力显得尤其重要。从系统工程的起源着手,介绍了系统工程的常见方法,并以半导体装备领域的应用为背景重点介绍了系统工程的工具链和基于模型的系统工程(MBSE)的部分关键技术。最后对系统工程方法,特别是对MBSE方法在我国半导体装备行业中的应用前景作了展望。

摘要：为了营造一个健康舒适节能的视觉显示终端(VDT)作业光环境,提出基于节律因子和群智能算法的动态照明调控方法。首先根据VDT作业空间的作业情况和补偿关系建立照明模型;再结合光照需求、人工光源和自然光源之间的补偿关系和节律因子,建立动态光照调控模型;之后提出结合粒子群算法和萤火虫算法优势的混合算法,并引入精英粒子思想对混合算法进行改进;将某时段的照明需求、自然光源补偿量和作业区分布情况作为照明优化模型的输入,并利用改进算法求解人工光源的光通量。将改进算法与其他算法进行对比实验,改进算法的寻优能力和稳定性明显优于其他相关算法;实验证明基于动态调控方法优化的VDT作业空间光环境,视觉效果更好,并具备较大的节能潜力。

摘要：北京理工大学光电学院始于1953年留法博士马士修先生等老一辈科学家创建的新中国第一个军用光学仪器专业一光学仪器设计与制造专业,开创了研究制造各军兵种所需光学仪器的先河。1954年,在该专业的基础上,成立仪器制造系,开始招收研究生;1960年,学校发展建设军用光学设计与制造、天文导航、火箭仪表传感器、踪迹侦察、红外技术等专业方向。

摘要：提出了一种基于样品连续旋转的高阶导模干涉刻写多层亚波长圆光栅的方法。利用有限元法模拟导模干涉场,以及坐标旋转矩阵和数值模拟方法研究对样品实施连续旋转曝光后的总光场。选取442 nm波长激光作为激发光,以TE5和TM51为例,研究了高阶导模干涉刻写制备多层亚波长圆光栅的光场分布。通过光场分布分析了多层亚波长圆光栅在X-Y平面的周期以及Z轴的周期和层数,这些参数可通过改变光刻胶厚度和干涉曝光的导波模式来调节。同一厚度光刻胶条件下存在着多种高阶导模,且同阶导模对应的激发角可以通过改变光刻胶的厚度进行有效调控。因此,通过选择不同厚度的光刻胶,选取曝光所用的高阶导模,可以刻写各种不同参数的多层亚波长圆光栅。该方法是制备多层亚波长圆光栅的一种简单而有效的方法,在微纳光学领域具有一定的应用前景。

摘要：准分子激光光源在光刻、工业制造、医疗和科研领域都有广泛的应用,特别是其波长、线宽、能量与剂量等指标在光刻领域有很大的优势,可以为光刻机带来更小的图像分辨率和更均匀的曝光图形。现阶段准分子激光器已用于7 nm光刻工艺,并日趋完善,带来更低的运营成本、更高的产率和产量,从而推动整个半导体制造产业的发展。首先简单介绍了准分子激光原理,回顾了准分子激光的发展历史,调研了准分子激光在光刻上的应用现状,及国外准分子光刻光源的主流机型,继而重点阐述了部分应用在光刻中的准分子激光器的关键技术,并展望了准分子激光在光刻及集成电路制造其他环节应用的未来趋势,为我国准分子激光的自主可控发展提供有益借鉴。

摘要：本文研究了弹性薄膜厚度、透镜口径尺寸对于液体透镜动态响应的影响。实验结果表明,采用0.5mm厚度的弹性薄膜,当透镜口径为20mm时,液体透镜在20Hz时响应稳定;当透镜口径为30mm时,液体透镜在11Hz时响应稳定;当透镜口径为50mm时,液体透镜在9Hz时响应稳定。采用1.0mm厚度的弹性薄膜,当透镜口径为20mm时,液体透镜在25Hz时响应稳定;当透镜口径为30mm时,液体透镜在15Hz时响应稳定;当透镜口径为50mm时,液体透镜在9Hz时响应稳定。