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基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法研究: 收藏
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引用; 《计量学报》2023年第5期44卷 671-678页; 作者：陈凯晴管钰晴邹文哲邓晓孔明陈雅晴熊英凡傅云霞雷李华中国计量大学计量测试工程学院浙江杭州310018 上海市计量测试技术研究院上海201203 同济大学物理科学与工程学院上海200092 上海市在线检测与控制技术重点实验室上海201203; 建立了一种基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法。以国家自溯源光栅标准物质来建立标准样板校准溯源体系的可行性为基础,保障测量仪器更高精度、可溯源性;设计并制备了节距长度有序递增的多周期电子束直写光栅样板,满足可...; 建立了一种基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法。以国家自溯源光栅标准物质来建立标准样板校准溯源体系的可行性为基础,保障测量仪器更高精度、可溯源性;设计并制备了节距长度有序递增的多周期电子束直写光栅样板,满足可适配于不同分辨率的nm测量仪器的需求,名义节距值分别为200、400、600、800、1 000 nm。经国家自溯源光栅标准物质比对后的AFM完成对nm栅格标准样板的测量与表征,实验表明:电子束直写制备的光栅标准样板均匀性水平1 nm,相对不确定度低于2%,光栅均具有良好的均匀性、准确性以及稳定性,验证了研制的光栅标准样板能作为一种理想的实物标准运用于nm几何量量值溯源体系。; 来源：详细信息评论

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