摘要：针对可见光通信(VLC)系统中接收平面光功率分布不均匀的问题,提出了一种基于混合粒子群算法(HPSA)的智能反射面(IRS)辅助室内VLC系统光源优化设计方案。以16个发光二极管(LED)的矩形和混合型布局为例,设置接收光功率方差为适应度函数,将所提出的HPSA与IRS技术相结合,对LED的位置布局、半功率角以及IRS的偏航角与滚转角进行优化。仿真对比了初始的(未经优化)、基于HPSA优化的室内VLC系统,以及基于HPSA优化的IRS辅助VLC系统的性能。结果表明,在考虑一次反射链路的情况下,与初始的VLC系统相比,采用HPSA优化的系统在两种光源布局下的接收光功率以及信噪比波动都明显降低;基于HPSA优化的IRS辅助室内VLC系统在矩形布局下对接收光功率波动的改善与基于HPSA优化的VLC系统效果相当,其在混合型布局下明显低于仅采用HPSA优化的VLC系统的光功率波动。3种可见光通信系统中,基于HPSA优化的IRS辅助VLC系统的平均接收光功率最大。此外,上述3种VLC系统采用混合型布局的平均均方时延拓展性能均优于矩形布局。研究工作对室内可见光通信系统光源分布研究具有一定参考价值。

摘要：提出一种基于二次规划的光刻机光源优化方法。采用空间像与目标像的图形误差为目标函数,根据空间像强度与不同位置的点光源之间的线性关系,将光源优化转换成二次规划问题。将掩模图形区域分成限制区域和比较区域,对限制区域应用约束条件,对比较区域采用目标函数优化。采用一维孤立空图形和二维接触孔阵列图形对该方法进行验证,分析光刻胶阈值和离焦量对优化结果的影响。仿真表明,提出的光源优化方法获得了光源的全局最优解,提高了光刻成像质量,增大了工艺窗口。

摘要：离轴照明(OAI)作为一种重要的分辨力增强技术(RET),不仅可以提高光刻分辨力,而且对焦深(DOF)也有一定程度的改善。针对特定的掩模图形,采用何种离轴照明模式能最大程度地改善光刻成像性能是主要研究的内容。通过优化设计的方法来获得最佳照明模式,采用的优化算法为最速下降法,采用的评价函数为光刻工艺窗口。工艺窗口包含三个方面的信息:成像精确度、曝光度、焦深。通过空间像性能对这三个方面分别做了描述,并将这三个函数加权得到综合评价函数,这种描述方法避免了复杂的光刻胶模型,评价函数值能快速准确地被求解。求解不同权值下的最佳照明模式及该照明模式对应的实际工艺窗口大小,结果表明,空间像性能描述的评价函数能较好地反映实际工艺窗口的性能,合理选择权值,优化得到的照明模式对工艺窗口性能有较大改善作用。

摘要：针对静脉采集系统采集到的图像存在阴影和曝光不均匀的问题,基于几何光学模型照度理论,围绕手背上光源照度均匀分布问题展开研究。设计两种不同排列方式的发光二极管(LED)阵列,利用菌群算法分别对两种LED阵列的三维位置参数进行优化。采用TracePro对光源三维优化结果进行验证。仿真结果表明:基于菌群算法,经三维优化后的圆形LED阵列的照度均匀度达到88.58%,相较于优化前提高了12.98%;经三维优化后的矩形LED阵列的照度均匀度达到95.8%,相较于优化前提高了16.4%;矩形LED阵列经优化后光照均匀度在95%以上,满足图像采集的光照要求。实验结果表明:该优化方法能够实现光照系统对静脉表面均匀照射,成像效果显著提升。

摘要：提出一种基于差分进化算法和微反射镜阵列(MMA)光源模型的光刻机匹配方法。加入MMA光源模型,利用差分进化算法优化微反射镜光斑分布,以实现光刻机匹配。与通常用于自由照明系统的光刻机匹配方法相比,本方法能直接优化MMA参数,有效减小了在MMA产生照明光源的过程中出现的匹配误差。以一维线空掩模为匹配目标,分别对四极照明和自由照明光源进行匹配,匹配后关键尺寸误差的均方根(RMS)下降了80%以上,与基于遗传算法和粒子群优化算法相比,本方法的匹配结果更优并具有更快的收敛速度。此外,本方法还可以有效地控制生成光源的光瞳填充比例,使匹配前后光源的光瞳填充比例保持一致。