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毛细管X光透镜共聚焦技术在测厚中的应用: 收藏
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引用; 《光谱学与光谱分析》2013年第8期33卷 2223-2226页; 作者：彭松刘志国孙天希李玉德刘鹤贺赵为刚赵广翠林晓燕罗萍潘秋丽丁训良北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京100875 北京师范大学核科学与技术学院北京100875 北京市辐射中心北京100875; 为了实现对薄膜和镀层材料厚度的微区无损分析,利用多毛细管X光会聚透镜和多毛细管X光平行束透镜设计并搭建了普通实验室X射线光源的共聚焦微束X射线荧光测厚仪,对该共聚焦测厚仪的性能进行了系统表征。利用该测厚仪测定了厚度约为25μm...; 为了实现对薄膜和镀层材料厚度的微区无损分析,利用多毛细管X光会聚透镜和多毛细管X光平行束透镜设计并搭建了普通实验室X射线光源的共聚焦微束X射线荧光测厚仪,对该共聚焦测厚仪的性能进行了系统表征。利用该测厚仪测定了厚度约为25μm的Ni独立薄膜样品和压于硅基表面厚度约为15μm的Ni薄膜样品厚度,对应它们的相对测量误差分别为3.7%和6.7%。另外,还对厚度约为10μm Ni薄膜样品的厚度均匀性进行了测量。该共聚焦测厚仪可以对样品进行微区深度分析,并且具有元素分辨能力,从而使得该谱仪可以测量多层膜样品不同层的膜厚,在薄膜和镀层厚度表征领域具有潜在的应用。; 来源：详细信息评论

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