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引用; 《今日中国》1989年第8期38卷 57-57页; 我國第一台光化學氣相澱積設備光化學氣相澱積設備是八十年代才出现的新技術,主要功能是在超低温條件下(低於零下二百攝氏度)澱積二氧化硅、氮化硅等介質膜,並對半導體芯片不産生損傷。在湖南省新化無线電厂投入生産的我國第一台光化...; 我國第一台光化學氣相澱積設備光化學氣相澱積設備是八十年代才出现的新技術,主要功能是在超低温條件下(低於零下二百攝氏度)澱積二氧化硅、氮化硅等介質膜,並對半導體芯片不産生損傷。在湖南省新化無线電厂投入生産的我國第一台光化學氣相澱積設備,設計先進,結構新颖,操作安全,各項指標均達到了國際先進水平。該項設備是由西北科技大學和湖南新化無线電設備厂聯合研制成功的,现已正式投入生産。(劉瑞球); 来源：详细信息评论

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