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分子玻璃光致抗蚀剂研究进展
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《吉林化工学院学报》2012年 第9期29卷 12-16页
作者:徐娜 刘玉芹 王金玲 胡勇 孟磊吉林化工学院研究生处吉林吉林132022 吉林化工学院材料科学与工程研究中心吉林吉林132022 中国石油吉林石化公司乙烯厂吉林吉林132022 吉林市龙潭区第二实验幼儿园吉林吉林132021 中山市福瑞特科技产业有限公司广东中山528400 
随着半导芯片集成度的快速提高,光刻技术的分辨率正由90、65和45 nm迈向更先进的32 nm或以下.而分子玻璃体抗蚀剂可能是下一代光刻技术的最好选择.本文阐述了分子玻璃光致抗蚀剂的设计思想,并介绍了几种性能良好的分子玻璃光致抗蚀剂.
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