摘要：将化学抛光工艺用于大口径连续位相板(CPP)的制造中,介绍了作为加工基础的Marangoni效应和化学抛光去除函数。在此基础上,结合CPP元件的面形特征,设计了小口径化学磨头。通过工艺实验讨论了刻蚀溶液中不同浓度NH4F添加量对刻蚀速率的影响,实验结果表明,NH4F添加量为10%～13%时可以获得最高的刻蚀速率。通过实验测算了温度波动在±1℃时,刻蚀速率的相对误差为7.8%。根据相关工艺参数设计了工艺流程,并针对不同面形特征的CPP元件进行了实际的加工,得到了与设计结果相符合的制造结果。

摘要：为了消除传统的三酸抛光对环境和人体健康的危害,本文开发了一种磷酸体系的无烟不锈钢化学抛光工艺,研究了不锈钢化学抛光液的组成和抛光温度、时间等工艺参数对抛光效果的影响。利用电位-时间曲线对抛光过程进行了分析,确定了最佳的抛光工艺条件:120mL/L磷酸,60g/L硝酸钠,60mL/L盐酸,15mL/L添加剂,θ为60℃,t抛光为3～5min。

摘要：针对激光陀螺光学腔体这种复杂结构的光学零件,采用传统的光学抛光的方法无法对其凹槽、孔道进行抛光的问题,提出了一种采用化学溶液对玻璃进行侵蚀的化学抛光技术。本文分析了微晶玻璃的组成及化学抛光的机理,制备了适合的化学抛光溶液,设计了抛光技术方案、工艺流程及方法。对化学抛光后的光学表面进行了测试、分析,结果表明：采用NH4HF2、H2O、添加剂组成的化抛溶液,抛光后能够得到光滑、透明玻璃表面,抛光表面的粗糙度可达0.2~0.3μm,可见光透过率88%~90%,化学抛光去除量为0~100μm,本研究实现了复杂结构的光学零件的＂确定性＂化学抛光。

摘要：不锈钢基板是下一代柔性显示器的理想选择,对其表面加工是世界各国显示器厂商争相研究攻克的技术。根据不锈钢基板的主要化学成分,提出了化学抛光液的配制原则。通过测量不锈钢基板表面粗糙度和失重率的变化,研究不同抛光液组份对抛光效果的影响,分析不同化学组份的作用机理,确定了以磷酸、盐酸、硝酸、亚硝酸钠和添加剂为主要成分的不锈钢基板化学抛光液。结果表明,在一定的工艺条件下,锈钢基板由抛光液抛光后可取得较好的抛光表面。

摘要：在连接器产品设计中,需要对形状复杂的不锈钢玻璃封接组件进行表面处理,使零件表面达到镜面光亮效果,才能在后续电镀过程中更好地保证产品的性能。根据实际生产过程中的需求,研究了不锈钢玻璃封接组件电镀前表面处理达到镜面光亮效果的工艺过程,探索出一种新型环保不锈钢化学处理液,讨论了溶液各组分和温度、处理时间等工艺参数的影响。通过实验和生产验证,该不锈钢玻璃封接组件镜面化学处理液的最佳工艺条件为：40 m L/L硫酸,80 g/L添加剂XSY,θ为80℃,t为30~50 s,其表面可达到镜面般光亮,且封接玻璃表面无裂纹,保障其表面在电镀过程中具有良好的镀层结合力和表面质量,满足了设计对产品的性能要求。

摘要：设计了硫酸体系化学抛光液,包含硫酸、铝盐、过硫酸钠和六次甲基四胺。通过正交试验确定了配方中各物质的最佳含量,并通过单因素试验获得了最佳的工艺条件。结果表明:最优工艺下,经过对6061铝合金抛光,发现试样表面平整、光亮、均匀,降低了样品的粗糙度,具有较高的光泽度和较低的溶蚀性。此抛光体系对6061铝合金具有较好的抛光效果。

摘要：根据焊丝表面质量要求和常用铝合金化学抛光工艺,设计了铝焊丝表面处理工艺流程,研制了20线并行运行连续生产的关键设备.采用钢骨架与聚丙烯板衬里的复合结构抛光槽,对于110℃左右的磷酸-硫酸-硝酸系抛光液,能较好地满足耐蚀、保温以及刚度和强度的要求.采用双螺杆排线机构设计的收线机,通过链条传动进行多机串联,解决了20线铝焊丝同步牵引和密排层绕收线的问题.研制的单片机系统通过变频器进行线速度及抛光时间等工艺参数控制.结果表明,研制的生产线成本低、效率高、运行可靠,能够生产出合格的铝焊丝产品.

摘要：通过试验对奥氏体不锈钢化学抛光工艺进行优选,研制了环保、经济的不锈钢抛光工艺。

摘要：目的寻求钛(TA2)化学抛光的最佳工艺。方法1mm×10mm×30mm片状煅造TA2钛样品统一磨光,以正交试验设计优选钛化学抛光液的最佳组合,再改变抛光温度与时间,测试钛样品表面质量与平均腐蚀深度。结果抛光溶液的最佳组合为:NH4F5ml、H2O12ml、尿素3ml、HNO312ml;操作温度:15-30℃;操作时间:2.5-3.5min。结论化学抛光液的组分与工艺条件对钛抛光效果有很大影响。

摘要：铝合金外壳以其的轻薄、坚固和优良的导热性逐渐成为电子消费市场的新宠,但对铝合金外壳制造过程来说,化学抛光制程问题一直困扰着阳极处理制造商。本文采用六西格玛的DMAIC流程,通过优化组合磷酸硫酸比、Al3+含量、化抛时间、温度对提高良率最有影响的这4点参数进行设计,从而得到较好的效果。