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均匀设计法在去钻污工艺优化中的应用
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《实验科学与技术》2010年 第2期8卷 39-42页
作者:薛卫东 何为 王守绪 陈兆霞 张敏 陈浪 何波 万永东电子科技大学微电子与固体电子学院成都610054 珠海元盛电子科技股份有限公司技术中心广东珠海519060 
运用实验设计方法对等离子清洗挠性印制线路板去钻污工艺参数进行了优化。结果表明,用均匀设计法进行试验,仅需试验12次便可获得实验结果,通过非回归分析即可得到凹蚀量y(μm)与CF4含量、射频功率、真空度、温度、时间等因素的回归方程...
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等离子对刚挠结合印制板用材料蚀刻的均匀性及其机理研究
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《印制电路信息》2010年 第S1期18卷 206-214页
作者:周国云 何为 王守绪 莫芸绮 毛继美 陈浪 何波电子科技大学应用化学系 珠海元盛电子科技股份有限公司技术中心 
等离子清洗是刚挠结合板去钻污的最重要的一个过程,它影响着镀铜与孔壁表面之间的结合力。获得平整、均匀的表面是金属化孔可靠性的重要保证。本文将从等离子机的腔体空间的均匀性、等离子机蚀刻时间的均匀性等研究着手,为等离子蚀刻均...
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