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检索条件"主题词=去钻污"
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均匀设计法在去钻污工艺优化中的应用
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《实验科学与技术》2010年 第2期8卷 39-42页
作者:薛卫东 何为 王守绪 陈兆霞 张敏 陈浪 何波 万永东电子科技大学微电子与固体电子学院成都610054 珠海元盛电子科技股份有限公司技术中心广东珠海519060 
运用实验设计方法对等离子清洗挠性印制线路板去钻污工艺参数进行了优化。结果表明,用均匀设计法进行试验,仅需试验12次便可获得实验结果,通过非回归分析即可得到凹蚀量y(μm)与CF4含量、射频功率、真空度、温度、时间等因素的回归方程...
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引起印制电路板ICD失效的关键要素(待续)
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《电子工艺技术》2025年 第1期46卷 59-63页
作者:毕文仲 徐伟明 曾福林 安维中兴通讯股份有限公司广东深圳518057 
从印制电路板ICD问题定义和缺陷类型展开分析,设计试验方案,验证ICD问题关键要素和产生的机理,从设计、板材、孔、去钻污、孔金属化5个方面分析验证,得出验证结果,提出改善预防措施,为PCB从业者提供借鉴。
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等离子对刚挠结合印制板用材料蚀刻的均匀性及其机理研究
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《印制电路信息》2010年 第S1期18卷 206-214页
作者:周国云 何为 王守绪 莫芸绮 毛继美 陈浪 何波电子科技大学应用化学系 珠海元盛电子科技股份有限公司技术中心 
等离子清洗是刚挠结合板去钻污的最重要的一个过程,它影响着镀铜与孔壁表面之间的结合力。获得平整、均匀的表面是金属化孔可靠性的重要保证。本文将从等离子机的腔体空间的均匀性、等离子机蚀刻时间的均匀性等研究着手,为等离子蚀刻均...
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