限定检索结果

检索条件"主题词=参考设计流程"
33 条 记 录,以下是1-10 订阅
视图:
排序:
Synopsys与华虹NEC共同推出参考设计流程
收藏 引用
《集成电路应用》2004年 第4期21卷 51-52页
来源:详细信息评论
联电与Synopsys携手开发0.13微米参考设计流程
收藏 引用
《集成电路应用》2004年 第6期21卷 26-27页
来源:详细信息评论
宏力半导体(Grace)和SYNOPSYS携手开发参考设计流程
收藏 引用
《半导体技术》2005年 第2期30卷 78-78页
半导体设计软件的全球领先企业Synopsys公司与上海宏力半导体制造有限公司日前宣布,Synopsys的专业服务部和宏力已经联合开发出了一个用于宏力的0.18微米的参考设计流程。这个RTLto—GDSII的设计流程建立在经Synopsys验证的Galaxy^TM...
来源:详细信息评论
宏力和SYNOPSYS携手开发参考设计流程
收藏 引用
《中国集成电路》2005年 第3期14卷 21-21页
Synopsys公司与上海宏力半导体制造有限公司(Grace)近日宣布,Synopsys的专业服务部和宏力已经联合开发出了一个用于宏力的0.18微米的参考设计流程。这个RTL—to—GDSII的设计流程建立在经Synopsys验证的Galaxy设计和Discovery验证平...
来源:详细信息评论
华虹NEC携手Synopsys开发参考设计流程
收藏 引用
《电子设计技术 EDN CHINA》2006年 第11期13卷 132-132页
作者:王小庆 
电子设计自动化(EDA)软件工具厂商Synopsys与上海华虹NEC电子有限公司近日宣布,双方将携手开发应用于华虹NEC 0.18μm工艺的参考设计流程2.0版本。华虹NEC选择Synopsys作为其首选EDA供应商后,将充分利用Synopsys Professional Ser...
来源:详细信息评论
Synopsys与华虹NEC共同推出参考设计流程
收藏 引用
《邮电设计技术》2004年 第4期 31-31页
作者:王冰 
来源:详细信息评论
华虹NEC与Synopsys开发参考设计流程
收藏 引用
《电子测试(新电子)》2006年 第11期 115-115页
Synopsys与上海华虹NEC电子有限公司日前宣布,双方将携手开发应用于华虹NEC0.18微米工艺的参考设计流程2.0。华虹NEC选择Synopsys作为其首选EDA供应商后,将充分利用Synopsys Professional Services开发基于Synoopsys Galaxy设计平台...
来源:详细信息评论
CADENCE与UMC合作推出基于CPF的65纳米低功耗参考设计流程
收藏 引用
《集成电路应用》2008年 第7期25卷 14-14页
Cadence与UMC宣布,推出基于通用功率格式(CPF)的低功耗参考设计流程,面向UMC65纳米工艺。该参考流程让客户能够在使用UMC的低功耗套件时实现最佳的65纳米低功耗设计,该套件中包含了基于CPF的库和其他知识产权。
来源:详细信息评论
华虹NEC与Synopsys公司携手开发参考设计流程2.0
收藏 引用
《电子与封装》2006年 第11期6卷 43-43页
全球领先的电子设计自动化(EDA)软件工具领导厂商Synopsys与中国最先进的集成电路制造商之一上海华虹NEC电子有限公司于2006年10月13日宣布。双方将携手开发应用于华虹NEC 0.18μm工艺的参考设计流程2.0。华虹NEC选择Synopsys作为其...
来源:详细信息评论
华虹NEC与Synopsys携手开发参考设计流程2.0
收藏 引用
《电子与电脑》2006年 第11期6卷 73-73页
来源:详细信息评论
聚类工具 回到顶部