摘要：为探索一种核电用包壳材料FeCrAl合金表面涂层的制备方法,本文利用多弧离子镀技术在FeCrAl合金表面制备了以FeCrAl作为过渡层的Al_(2)O_(3)-TiO_(2)涂层,对试样进行热冲击实验以探究涂层的抗热冲击性能,对试样进行600℃、1000 h静态铅铋合金(LBE)腐蚀实验,研究涂层的耐腐蚀性能,表征和分析了试样经LBE腐蚀前后的相组成和显微形貌。结果表明,通过多弧离子镀制备的Al_(2)O_(3)-TiO_(2)为非晶态,30次热冲击试验后涂层未出现开裂、脱落等现象。腐蚀后,FeCrAl基体试样表面发生明显溶解腐蚀。而X射线衍射分析显示涂层试样在腐蚀后Al_(2)O_(3)发生结晶,表层Al_(2)O_(3)结构收缩出现孔隙,而涂层内部仍保持致密,且截面分析显示LBE未渗入涂层内部。因此,Al_(2)O_(3)-TiO_(2)/FeCrAl涂层能有效地阻止LBE对基体材料的腐蚀。

摘要：针对含Si超硬涂层与基体结合强度不足,切削过程中涂层易发生剥落从而导致涂层刀具切削性能低的问题,采用离子源增强的多弧离子镀技术在硬质合金刀具上制备了不同含Si层梯度结构的TiAlSiN梯度涂层。利用XRD、SEM、OM以及切削试验探讨不同含Si层梯度结构对涂层物相、表面形貌、膜基结合强度、摩擦磨损以及切削性能的影响。结果显示:不同含Si层梯度结构的TiAlSiN涂层主要由固溶的(Ti, Al)N和(Al, Ti)N相组成。其中,低Si直接过渡的TiAlSiN涂层(S3)呈现出较高的硬度、良好的膜基结合力、较低的涂层残余应力和摩擦因数。铣削结果显示,涂层刀具的切削磨损机理主要表现为粘着磨损。当切削速度为80 m/min时,低Si过渡涂层(S3涂层)表现出更高的切削长度(925 m),显著高于S1涂层的525 m;当切削速度由80 m/min增加至110 m/min时,S3涂层切削长度增加到1650 m。对含Si刀具涂层进行梯度设计,可有效提高涂层的膜-基结合强度和涂层刀具的切削性能。

摘要：采用渗氮与多弧离子镀复合技术,在不同靶电流条件下制备Ti0.33Al0.67N膜层,分析靶电流对膜层形貌、膜层厚度、结合力及显微硬度等性能的影响。得出靶电流设计范围内存在一个最佳值,以获得膜层最优性能。

摘要：采用多弧离子镀制备的合金涂层成分与合金阴极靶之间通常存在一定程度的偏差。这种离析效应导致了合金涂层成分控制及合金靶材成分设计的困难。现在的研究工作提出了一个简易的公式an=[(an0 · fn) / i(ai0 · fi) ]· 10 0用于解决这些问题。此公式可以根据合金元素的离化率计算涂层的合金成分。计算结果与实验结果取得了较好的一致。改变该公式的表达方式 an0 =[(an/ fn) / i(ai/ fi) ]·10 0 % ,则易于完成阴极靶源的成分设计 ,并且实现合金涂层的理想成分。

摘要：对多弧离子镀中控弧磁场技术及其在改善弧斑运动特性方面的应用进行了介绍。以静态控弧磁场和复合动态控弧磁场为基础,对横向磁场/轴向磁场分解、锐角法则及其具体应用进行了详细分析,进而讨论了不同结构控弧磁场的优势和局限性。最后指出了控弧磁场技术目前存在的问题和今后重点研究的方向。

摘要：本文通过对使用合金材料作为阴级靶源制备的多弧离子镀反应涂层和合金深层的成分离析现象的分析和讨论，初步揭示了离析现象的影响因素和成分变化的基本规律，建立了根据靶材成分来确定涂层成分的数学模型，为合金涂层成分设计提供了一种简捷有效的计算方法。

摘要：利用正交设计试验探讨了基体温度、偏压、溅射时间、沉积时间对ZL109表面沉积TiN涂层时,对薄膜显微硬度和膜/基结合力的影响。结果表明,在ZL109表面多弧离子镀制备TiN薄膜的最佳工艺为:基体温度260℃、偏压200V、沉积时间30min、溅射时间8min、Ti靶电流80A、炉内总压1Pa(Ar和N2流量比为1∶2)。在此工艺下制备的TiN薄膜显微硬度达到1500HV0.05,膜/基结合力达到36N,膜厚约2～3μm。

摘要：本文模拟了Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀的镀膜过程。通过对圆柱形镀膜室-偏压电场的模拟,讨论了在不同的偏压电场下粒子的运动特性、成分离析效应的影响因素、涂层成分均匀性的影响因素,模拟结果与实际的镀膜实验相符。

摘要：为研究不同工艺参数对多弧离子镀制备TiAlN涂层性能的影响规律,设计了L9(3~4)正交试验表,并通过试验研究了弧电流、衬底负偏压、氮气/氩气流量比以及腔体压强对涂层Al含量和硬度的影响规律,得到了最佳工艺参数优化组合。结果表明:影响Al含量的因素按重要性排序依次是:腔体压强、氮气/氩气流量比、衬底负偏压、弧电流。影响涂层硬度的因素按重要性排序依次是:弧电流、氮气/氩气流量比、腔体压强、衬底负偏压。

摘要：目的研究膜层牢固度好、满足各种用户对膜层厚度要求、质量一致性好的多弧离子镀膜工艺参数组合．方法运用日本田口玄一创立的稳健性设计方法进行研究．结果与原工艺膜厚相比均匀性提高约６．５ｄＢ，并找出膜厚与弧电流之间的线性关系；硬度一致性提高约３．４ｄＢ，显微硬度值提高约９３７ｋｇ·ｍｍ－２．结论动态特性的稳健性设计是一种高效率、高再现性的技术开发方法．