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3.5~12.5μm三波段宽带红外Ge窗口多层增透膜的研制
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《光学与光电技术》2005年 第1期3卷 32-34页
作者:王懿喆 朱福荣 张凤山中国科学院上海技术物理研究所上海200083 
介绍了利用三种材料Ge、ZnS和YbF3在Ge基片上制备3.5~12.5 μm三波段宽带增透膜的膜系设计、制备工艺及光学、机械性能测试结果.该元件可应用于空间红外遥感系统.
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