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新型弧光辉光协同共放电(APSCD)真空镀膜机的研制: 收藏
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引用; 《真空》2013年第3期50卷 48-51页; 作者：林晶钱锋李恒樊涛于贵文王鹤腾哈尔滨商业大学包装科学与印刷技术工程实验室黑龙江哈尔滨150028 深圳市天星达真空镀膜设备有限公司广东深圳518116; 本文阐述了新型的弧光辉光协同共放电真空镀膜机的设计思想及应用,叙述了镀膜机的整体结构、圆柱靶的设计和磁场模拟、工件篮的结构和辉光弧光共放电的原理。实验对比了辉光弧光共放电和单独的辉光放电、弧光放电在镀膜速度、膜层硬度...; 本文阐述了新型的弧光辉光协同共放电真空镀膜机的设计思想及应用,叙述了镀膜机的整体结构、圆柱靶的设计和磁场模拟、工件篮的结构和辉光弧光共放电的原理。实验对比了辉光弧光共放电和单独的辉光放电、弧光放电在镀膜速度、膜层硬度和耐蚀性等方面的差别,表明了这种新型镀膜机的优越性。; 来源：详细信息评论

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