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高集成度激光列阵的外腔工作参数稳定技术: 收藏
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引用; 《半导体光电》2007年第1期28卷 19-22页; 作者：蔡然薛蔡胡渝电子科技大学四川成都610054 中国工程物理研究院电子工程研究所四川绵阳621900; 匹配高系统集成度的半导体二极管激光列阵(DLA)多发光单元特性的高系统集成度外腔工作参数稳定技术,通过拾取外腔形变传感器的响应等运行状态监控参数,经映射处理等处理后,获取控制参数,适时调整基超模运行所需腔体参数等,反馈控制,使DL...; 匹配高系统集成度的半导体二极管激光列阵(DLA)多发光单元特性的高系统集成度外腔工作参数稳定技术,通过拾取外腔形变传感器的响应等运行状态监控参数,经映射处理等处理后,获取控制参数,适时调整基超模运行所需腔体参数等,反馈控制,使DLA稳定运行于基超模。求得系统控制参数与外腔等参数之间的关系,以及建立相应鲁棒控制模型,是随DLA及其应用具体需求设计控制系统的指导基础,实验表明,基于此优化设计的高密外腔形变传感控制系统,可精细传感控制外腔形变,稳定外腔工作参数,改善高集成度激光列阵系统稳定运行于基超模可用性和系统可靠性。; 来源：详细信息评论

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