摘要：利用射频磁控溅射技术在不同工作气压和不同基底偏压条件下在Si(100)基底上设计合成了ZrB2/AlN纳米多层膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、纳米力学测试系统和表面轮廓仪分析了工作气压和基底偏压对薄膜的微结构和机械性能的影响。结果表明:大部分ZrB2/AlN多层膜的纳米硬度与弹性模量值高于两种个体材料的混合值。当工作气压为0.4Pa,基底偏压为-60 V时,制备的薄膜具有最高的硬度(36.8 GPa)、最高的弹性模量(488.7 GPa)和最高的临界载荷(43.6 mN)。基底偏压的升高和工作气压的降低会使沉积粒子的动能提高,引起薄膜表面原子迁移率提高,导致薄膜的原子密度提高,起到位错钉扎的作用,晶粒尺度也被限制在纳米尺度,这些均对提高薄膜的硬度和抗裂强度起到了作用。

摘要：采用电感性金属网栅作为光学谐振腔的反射镜和输入输出耦合器 ,设计制作了长度分别为 10 0cm、2 0 cm和 10 cm的 Fabry- Perot腔式亚毫米波激光器。运用半经典密度矩阵理论 ,通过迭代法计算了光泵腔式 NH3分子亚毫米波激光器的最佳工作气压。在实验上测量了 TEA CO2 - 10 R(8)和 9R(16 )泵浦上述 NH3分子亚毫米波激光器的最佳工作气压。理论计算与实验结果一致。

摘要：采用反应磁控溅射法在不同工作气压(0.5～2.0Pa)下沉积了一系列氮化铝(AlN)薄膜。研究发现,在保持其他工艺参数不变的条件下,工作气压对薄膜厚度的影响很小。场发射性能测试表明,在较低的工作气压(0.5Pa和0.7Pa)下制备的AlN薄膜具有一定的场发射性能。扫描电子显微镜(SEM)图像显示,在较高的工作气压(2.0Pa)下制备的薄膜易产生空位及微空洞等缺陷,使薄膜致密性下降。电子在薄膜中的输运因受到缺陷的散射而不能隧穿表面势垒进行发射。研究表明,为获得具有良好场发射性能的AlN薄膜,若采用反应磁控溅射法,应选取较低的工作气压;同时,对于薄膜型阴极,具有紧密晶粒结构及较小缺陷的薄膜可能具有更优异的场发射性能。

摘要：高速铁路在世界各国范围内建成和运行的同时,作为快捷、舒适、节能交通工具,超高速列车将成为轨道交通的下一个发展方向。而随着列车速度的提升,列车空气阻力明显增加。为有效降低空气阻力,实现列车超高速运行,真空管道交通应运而生。管道参数一直是真空管道交通系统所关注的重点之一,为明确管道参数与列车行车速度之间的关系,得出简便适用的真空管道参数设计方法,基于原朝茂理论,以时速350km列车在高铁标准断面隧道中运行时的空气阻力为控制指标,对超高速列车的阻塞比、行车速度及运行管道工作气压的相互影响规律进行了细致研究,并将列车在低压管道运行空气阻力的理论值与数值计算结果进行了比较。研究表明:1)低压真空管道列车空气阻力数值计算结果与原朝茂理论计算值相互吻合,可以基于原朝茂理论对真空管道列车空气阻力特性进行分析;2)给出了基于高速列车隧道阻力的超高速列车运行管道运行参数设计方法和参数选取曲线,研究结果可为低压真空管道的工作参数的选取提供理论依据。

摘要：在自主设计的具有非对称磁镜场位形的ECR等离子体装置上进行CVD金刚石膜的刻蚀实验,研究了基片温度、工作气压和磁场位形三个工艺参数对刻蚀效果的影响。实验结果表明:通过此方法刻蚀的CVD金刚石膜,其晶粒顶端被优先刻蚀,表面粗糙度降低。实际数据显示,刻蚀温度为20℃和150℃时,后者的刻蚀效果更好;工作气压为2×10-3Pa和3×10-2Pa时,前者的刻蚀效果更好;磁场强度为0.2T和0.15 T时,前者的刻蚀效果更强。

摘要：利用射频磁控溅射方法制备了VO2薄膜，通过正交试验设计研究镀膜工艺因素对薄膜导电特性的影响规律。试验结果表明，影响薄膜导电性能的主要因素是热处理温度，其次是衬底的温度，溅射功率和工作压强对薄膜导电性能的影响很小。X射线衍射结果表明，制备的VO2薄膜为非晶体结构，480℃真空热处理后，VO2薄膜结晶良好。由此得到制备VO2薄膜的最优化工艺为：衬底的温度400℃、热处理温度480℃、溅射频率120W和工作气压1．5Pa．

摘要：为制得具有更小电阻即更好导电性能的织物,利用磁控溅射技术,以铜作为靶材,在涤纶纺黏热轧非织造布上沉积铜薄膜制备导电织物,测试其表面电阻值。分别对进气量、溅射功率、工作气压、靶基距、溅射时间进行单因素试验,探究溅射工艺参数对试样导电性能的影响规律;然后在单因素试验基础上对试验进行二次正交旋转组合设计,对显著因素进行参数优化。得出:制备较低表面电阻值的导电织物的最优参数组合为进气量35.00 m L/min、溅射功率83.0 W、工作气压0.400 Pa、靶基距3.900 cm、溅射时间4.10 min,所得导电织物表面电阻值在1.000 0~100.000 0Ω。

摘要：推导了振动轮式微机械陀螺的输出信号与输入角速度的幅频、相频关系 ,讨论了在不同的频率配置和品质因数下陀螺的灵敏度、带宽和零位稳定性。陀螺振动频率应设计在 2 k Hz左右 ,检测轴自然频率比驱动轴高一个陀螺频带宽度。根据实测陀螺振动品质因数与气压的关系曲线 ,振动轮式微机械陀螺合适的工作气压是 1 0 0 Pa～ 1 0 0 0