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制备特定膜系的真空镀膜平面挡板设计
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《光学机械》1992年 第5期 17-21页
作者：金南善 李春 
用静止平面挡板遮挡蒸气流以改变基底膜厚分布的方法在真空镀膜中经常使用。本文从文献中的膜厚分布的基本公式出发,分析研究了有关技术途径,并提出了适用于各类光学薄膜制备的平面静止挡板的设计。
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