限定检索结果

检索条件"主题词=微制造"
14 条 记 录,以下是1-10 订阅
视图:
排序:
微制造数控系统的实时有限状态机建模研究
收藏 引用
《浙江大学学报(工学版)》2005年 第12期39卷 1965-1968,1997页
作者:姚鑫骅 潘雪增 傅建中 陈子辰浙江大学计算机科学与技术学院浙江杭州310027 浙江大学现代制造工程研究所浙江杭州310027 
为提高传统有限状态机(FSM)分析微制造数控系统(NCS)实时性特征的能力,提出了一种实时有限状态机(RTFSM)模型.该模型对传统FSM概念进行扩展,通过增加时间属性来描述状态行为的执行时间以及状态间切换所需的时间耗费.考虑到对复杂NCS控...
来源:详细信息评论
微制造的生物途径
收藏 引用
《中国机械工程》2003年 第4期14卷 353-356页
作者:刘曼西 师汉民华中科技大学生命科学与技术学院 华中科技大学机械科学与工程学院 
介绍与论述了微制造工艺的发展方向和微制造的一种新途径——根据分子生物学原则 ,设计和合成或通过分子克隆制备生物聚合物 。
来源:详细信息评论
高频群脉冲电化学加工在微制造中的应用
收藏 引用
《机械工程学报》2006年 第B05期42卷 60-64页
作者:吴高阳 张之敬 王志芳 付伟北京理工大学机械与车辆工程学院北京100081 
阐述了高频群脉冲电化学加工在微制造中的应用,介绍了群脉冲的产生、高频群脉冲电源从反向电流和压力波等方面对加工质量的影响以及微制造中阴极设计的原理并举例说明阴极设计过程,最后根据设计的小平面和某超薄结构件模具,进行高频群...
来源:详细信息评论
微制造信息系统综述
收藏 引用
《机械设计与制造2007年 第6期 203-205页
作者:徐晶晶 姚李英 刘世炳 吴坚 陈涛北京工业大学激光工程研究院北京100022 
信息技术在微制造业的应用给传统的微制造业带来了新的气象,该文详细阐述了微制造业信息系统的概念,功能和重要性,随后介绍了国内外微制造信息系统的发展状况及存在的一些问题,最后针对微制造信息系统的发展前景进行了展望。
来源:详细信息评论
模板射流电沉积微制造工艺的仿真优化设计
收藏 引用
《热加工工艺》2020年 第8期49卷 34-36,40页
作者:李志晶 范晖 李明明 曹赛男江苏师范大学机电工程学院江苏徐州221116 江苏省3D打印装备及应用技术重点建设实验室江苏南通226002 
模板射流电沉积是一种尺度加工的成形方法,体现了增材制造的加工思想。沉积过程中出现的沉积不均匀是阻碍增材加工过程的主要因素。通过对不同制备工艺参数下的沉积均匀性进行分析,并以有限元分析软件对阴极表面的电场分布进行了...
来源:详细信息评论
基于微制造的多晶硅薄膜型柔性铰链
收藏 引用
《机械工程学报》2006年 第6期42卷 193-198页
作者:张永宇 陈晓阳 赵江铭上海大学机电工程与自动化学院上海200072 
将宏机械柔性铰链设计思想应用到硅机械机构设计中,采用表面硅牺牲层工艺制作了结构层厚度为2 μm 的多晶硅薄膜型机械柔性铰链及在线测试机构,对米尺度柔性铰链的机械性能进行了理论和试验研究。以直圆型多晶硅薄膜柔性铰链为...
来源:详细信息评论
仿壁虎刚毛阵列的几何结构分析及制备
收藏 引用
《南京航空航天大学学报》2010年 第6期42卷 739-743页
作者:于敏 莫桂冬 贾世星 郭东杰 戴振东南京航空航天大学仿生结构与材料防护研究所南京210016 南京电子工业部第五十五研究所南京210016 
以JKR理论为基础,从刚毛缠结表面能的变化及弯曲变形角度分析,得到了仿刚毛阵列避免缠结的结构设计方法,得出了在材料性质确定的情况下,避免缠结的发生刚毛群几何结构须满足的关系。采用光刻制模真空浇铸的方法制备了4种结构尺寸的米...
来源:详细信息评论
超薄结构件的高频群脉冲电解加工工艺研究
收藏 引用
《北京理工大学学报》2006年 第7期26卷 585-588页
作者:吴高阳 张之敬 张卫民 唐兴伦北京理工大学机械与车辆工程学院北京100081 
针对超薄金属结构件的电解加工问题,阐述了高频群脉冲电解加工(HGPECM)的信号构成、加工过程中频率对反向电流的影响以及阴极设计方法,并进行了工艺实验验证.实验结果表明:高频群脉冲能显著改善极间电解液流场特性并降低电极钝化...
来源:详细信息评论
基于X光移动光刻技术的PMMA透镜阵列制备
收藏 引用
《红外与激光工程》2016年 第6期45卷 216-220页
作者:李以贵 颜平 黄远 杉山进上海应用技术大学理学院上海201418 日本立命馆大学微系统系 
透镜阵列的制备已经成为光学领域的研究热点。利用两次X光移动光刻技术,以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为正光刻胶,在PMMA基板上制造透镜阵列,并对其制作原理进行了详细说明。设计了制备透镜阵列用的掩膜图形,并通过掩膜图形模拟仿...
来源:详细信息评论
偏晶向(111)硅片闪耀光栅的设计
收藏 引用
细加工技术》2003年 第4期 18-21,26页
作者:鞠挥 张平 王淑荣 吴一辉中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室长春130022 
利用硅单晶的特殊结构可以设计出不同角度的闪耀光栅,再使用MEMS的紫外光刻、各向异性腐蚀等常规工艺就可以完成硅闪耀光栅的制作。设计了一种利用偏转晶向(111)硅片制作小角度闪耀光栅的方法,避免了利用其它晶向的硅片制作闪耀光栅的...
来源:详细信息评论
聚类工具 回到顶部