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微米及纳米非球形聚合物粒子的制备方法
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《化学进展》2011年 第6期23卷 1196-1210页
作者:李宏福 张博明 郭兴林北京航空航天大学材料科学与工程学院北京100191 中国科学院化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室北京100190 
具有精确形状的聚合物粒子已经被广泛应用到各个研究领域,尤其是在设计新型载药系统时,微米或纳米非球形聚合物粒子在药物释放、体内传输、循环、靶向能力、被巨噬细胞内吞的速率以及细胞膜上的黏附作用等多方面都比相应的球形粒子表现...
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微米与纳米
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《测绘技术装备》2002年 第4期4卷 47-48页
作者:曹来发华北电力设计院 
硅集成电路的发现创造了“计算机时代”和“信息时代”,目前在中国流行的奔腾4芯片,运行速度分别从1.3至2.4GH2(千兆赫),用线宽0.18微米(180纳米)制造工艺。2002年8月26日最新同时推出,用线宽0.13微米(130纳米)工艺制造2.5、2.6、2...
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数控微米刨切试验台的设计与试验
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《林产工业》2019年 第1期46卷 30-34页
作者:张云鹤 刘烁 马岩 杨春梅 刘旭东东北林业大学林业与木工机械工程技术中心哈尔滨150040 
为解决传统热磨法加工微米薄木片及木纤维中高能耗、工序复杂、加工成本高的缺点,现改变加工方法,采用顺纹纵向刨切木材的方式,研发了数控微米刨切试验台。试验台主要由机架、纵向进给机构总成、工件夹具、控制面板、刨切机构总成、升...
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微米、亚微米及深亚微米CMOS工艺技术研究
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《微处理机》1997年 第1期18卷 1-7页
作者:何玉表 张文肃电子工业部东北微电子研究所沈阳110032 
微米、亚微米及深亚微米CMOS工艺技术,包括原始硅材料、设计规则、典型器件结构、典型工艺流程和关键工艺技术等,作出全面地概括地分析与研究。
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华润上华推出高性价比0.25微米Scalable BCD工艺平台
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《中国集成电路》2012年 第7期21卷 1-2页
华润上华科技有限公司宣布已完成0.25微米ScalableBCD工艺平台开发,其更低成本和更高的可移植性可满足客户多样化的产品设计需求,进一步提高了华润上华BCD系列工艺平台的技术优势。华润上华的0.25微米ScalableBCD工艺平台为0.5微...
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超快激光技术解决微米制造中的热量问题
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《电子电路与贴装》2011年 第5期 13-14页
热量通常总会带来麻烦。毫无疑问。无论是叠层集成电路还是可植入式医疗设备,我们所制造产品的尺寸在不断缩小。微电子领域面临的挑战是:如何通过设计和材料工程,以控制设备运转时产生的热量。在医疗设备领域,热量管理面临的挑战已...
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0.5微米精细CMOS工艺
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《微电子学》1989年 第2期19卷 68-72页
作者:仁田山 晃宽 徐增禧东芝公司综合所 
近年来,开发VLSI用CMOS工艺技术,显得极为重要。这主要是因为CMOS电路具有功耗低,噪声容限大和电路设计比较容易等优点。另一方面,从电路高速化的观点看,CMOS晶体管正在向微细化发展,0.5微米微细栅长试制工作也在积极进行。这是为了在...
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现代传感器技术
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《测控技术》1996年 第4期15卷 5-9页
作者:宋宗炎北京9206信箱74分箱100076 
主要介绍建立在微电子机械系统技术基础上的现代传感器技术,显示了它对改造航天、航空、军事科学与国民经济的能力与未来发展的深远影响。例举了几种典型的微机械结构传感器,并通过这些实例介绍了微电机械系统的设计与典型的微机械制...
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华虹半导体推出0.2微米射频SOI工艺设计工具包
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《集成电路应用》2015年 第4期32卷 44-44页
华虹半导体有限公司推出全新的0.2微米射频SOI(绝缘体上硅)工艺设计工具包(Process Design Kit,PDK)。这标志着新的0.2微米射频SOI工艺平台已成功通过验证,并正式投入供客户设计开发使用。工艺设计工具包(PDK)的推出可协助客户快...
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宏力与Setitiel合作提供0.18微米RFCMOS工艺设计工具包(PDK)
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《中国集成电路》2009年 第5期18卷 5-5页
近日,宏力半导体制造有限公司发布其先进的0.18微米RFCMOS工艺设计工具包(PDK)。该PDK是与Sentinel IC Technologies(Sentinel)独家合作提供的。这个PDK建立在先进的模型与模拟平台上,集成了具备射频领域核心特性的创新的、完全...
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