摘要：为制备高纵横比的纳米硅尖,研究了掩模的偏转方向对硅尖形状的影响。设计了硅尖制备的工艺流程,采用KOH溶液湿法各向异性腐蚀(100)单晶硅的方法制备硅尖,根据实验结果和{411}晶面模型,分析了硅尖侧壁的组成晶面,讨论了掩模偏转方向对硅尖形状的影响,得到了制备高纵横比纳米硅尖的工艺参数。实验结果表明:当腐蚀溶液浓度和温度一定时,正方形掩模的方向并不影响快腐蚀晶面的类型,利用正方形掩模的偏转,可以制备出八面体和四面体的硅尖。当正方形掩模边缘沿〈110〉晶向时,在78℃、浓度为40%的KOH溶液中腐蚀硅尖,经980℃干氧氧化3h进行削尖,可制备出纵横比>2的八面体纳米硅尖阵列,硅尖侧壁由与(100)面夹角为76.37°的{411}晶面组成。

摘要：报道了国内首块用于极紫外投影光刻系统的6inch(1inch=2.54cm)标准极紫外光刻掩模。论述了32nm节点6inch标准极紫外光刻掩模的设计方案,及掩模衬底、反射层、吸收层材料的工艺特性研究,对缺陷控制及提高掩模效率的方法进行了分析。运用时域有限差分法对掩模的光学特性进行了仿真,根据仿真结果确定合适的Cr吸收层厚度。运用电子束光刻技术进行了掩模的图形生成,针对其中的电子束光刻临近效应进行了蒙特卡罗理论分析,用高密度等离子体刻蚀进行了图形转移,所制造的掩模图形特征尺寸小于100nm,特征尺寸控制精度优于20nm,满足技术设计要求。

摘要：针对接近式紫外光刻图形转移中的曝光形状失真问题,基于补偿思想,应用遗传算法,在引起衍射的掩模特征处,通过调整其形状,实现了光刻胶表面的衍射光场调制。根据光刻曝光轮廓特点,设计评价策略,提出一种分段分类的思想,减小了问题的求解空间,快速优化了掩模设计图形。仿真结果表明优化补偿后的掩模图形降低了衍射造成的曝光图形的形状失真程度。该研究为如何提高接近式紫外光刻精度提供了一种新的思路。

摘要：在模拟退火算法中引入了准梯度的概念,改进了以模拟退火算法为基础的光刻掩模版优化算法.该算法优先搜索由准梯度确定的关键区域,减少了模拟退火算法的无效搜索次数,在保证优化效果的基础上,可以提高原算法的收敛效率.实验结果表明,在65nm CMOS工艺节点下,该算法使得收敛速度大幅提高,优化效果更好.

摘要：本文从单晶硅材料的某些性质和压阻原理出发,对硅扩散型半导体压力传感器的光刻掩模版设计进行了较为全面地探讨,从而提出五种方案。文中还指明了某些使用条件下的最佳方案。

摘要：2维条码目前已广泛应用于各个领域,2维条码的编码过程中有一个重要步骤称为掩模调制,其目的是为了限制生成图像各区域的平均灰度,以提高码字的易印制、易识别能力。但现有的掩模方法大多基于感性,掩模模式有限并缺乏规范的方法支持及客观的评估手段,难以在各种应用条件下取得最佳效果。本文的研究目的是对能够对2维条码的掩模进行一种客观的数学上的评估。本文结合作者自行提出的一种可承载不确定容量信息的连续型2维条码,从统计分布模型角度对掩模技术进行研究,通过一种归于正态分布的数学评估模型,最终引导出一种比传统方法更为客观、规范、可最优化的掩模方法,该技术还可以应用于QR码等2维编码规则中。

摘要：介绍了一种ＳＴＥＰＰＥＲ通用测试掩模（ＵＴＭ）的设计构成及各测试元素图形的作用。在此基础上，分析了电子束制作ＵＴＭ的误差，并阐述了ＵＴＭ的测试方法、数据处理及其对ＳＴＥＰＰＥＲ性能的影响。

摘要：研究了衍射微透镜列阵的设计方法及 CIF格式掩模数据的数据结构与生成方法 ,设计了一套实用软件 ,采用图形切割、跟踪计算等方法 ,解决了生成子孔径为矩形、六方形及圆环扇形的衍射微透镜列阵掩模的问题 ,满足了实际系统对衍射微透镜列阵子孔径形状的各种需求。

摘要：Y2000-62082-799 0007604次波长光刻及其可能对设计与电子设计自动化的影响=Subwavelength lithography and its potential impact ondesign and EDA[会,英]/Kahng,A.B.& Pati,Y.C.//1999 Design Automation Conference.—799～804(P)Y99-61799-353 0007605碱性络合物系中的硅各向异性腐蚀机理=The mecha-nism of anisotropic etching of silicon in complexant alka-line system[会,英]/Moldvan,C.& Iosub,R.//Pro-ceedings of 1998 International Semiconductor Gonfer-ence,Vol.2.—353～356(UG)

摘要：本文通过对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析,阐明设计图经计算机辅助设计系统数字化后,生成PG格式数据,再由PG格式数据转换成电子束格式数据的处理;论述了光栅扫描的原理及特点;介绍了图形发生器的作用及电子束在控制系统作用下在基片上描绘图形的过程。