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检索条件"主题词=明导公司"
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明导公司推出全面设计工具流程解决复杂FPGA设计面临的挑战
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《中国集成电路》2003年 第51期12卷 30-30页
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明导公司向中芯国际提供用于0.18um混合信号制程的技术设计工具(TDK)和设计流程
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《电子工业专用设备》2004年 第8期33卷 38-38页
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明导公司发布FloTHERM软件
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《CAD/CAM与制造业信息化》2010年 第11期 1-1页
2010年10月25日,明导公司发布了针对电子散热应用的行业领先的下一代三维计算流体力学(CFD)软件FloTHERH。FloTHERM软件可提供散热障碍(Bn)和散热捷径(Sc)区域,工程师第一次能确电子设计中热流阻碍在哪里,以及为什么会出现...
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明导公司更新FGPA Advantage
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《集成电路应用》2003年 第9期20卷 43-43页
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中科院EDA中心与明导公司共建“系统设计联合实验室”
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《电子设计技术 EDN CHINA》2004年 第6期11卷 36-36页
作者:唐海燕 
中国科学院EDA中心和美国明导公司(Mentor Graphics)再度进行战略合作,继2003年3月共建"先进SoC验证联合实验室"后,又于2004年4月在北京举行了共建"系统设计联合实验室"签约仪式,双方表示将在系统设计领域开展长期...
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美国明导公司收购了Galaxy半
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《现代材料动态》2017年 第6期 9-10页
作者:赵晓凤 
俄勒冈州威尔逊维尔的明导公司收购了Galaxy半体,一个为半体行业提供测试数据分析和缺陷减少软件的供应商。通过这次收购,更多的设计、测试和产品工程师现在可以使用Galaxy的强大解决方案,以最大限度地提高设备产量,提高测试质...
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Mentor GraphiCS支持三星14nm IC制造工艺平台问世
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《中国集成电路》2013年 第1期22卷 11-12页
日前,明导公司(Mentor)宣布,用以支持三星14nmIC制造工艺的综合设计、制造与后流片实现(posttapeout)平台问世,这一平台能够为客户提供完整的从设计到晶圆的并行流程,使早期加工成为可能。
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与教育部签订备忘录促进IC设计人才培训
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《电子设计技术 EDN CHINA》2004年 第5期11卷 48-48页
作者:吴瑞生 
明导公司(Mentor Graphics)与教育部签订了理解备忘录,协助中国推动集成电路设计工程专才的培养,并推进整体行业发展。按照备忘录要求,将向中国九所最好的大学提供市场领先的电子设计自动化(EDA)产品、培训和支持,用于教授与IC...
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宣布支持三星14nm IC制造工艺的综合设计实现平台出台
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《工业设计》2013年 第1期 18-18页
俄勒冈州威尔逊维尔,2012年12月21日一一明导公司(Mentor Graphicsi Corp,纳斯达克代码:MENT)今天宣布,用以支持三星14nmIC制造工艺的综合设计、制造与后流片实现(post tapeout)平台问世,这一平台能够为客户提供完整的从设计...
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Mentor Graphics支持三星14nmIC制造工艺平台问世
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《电子工业专用设备》2012年 第12期41卷 53-53页
明导公司(MentorGraphicsCorp)日前宣布,用以支持三星14nlnIC制造工艺的综合设计、制造与后流片实现(posttapeout)平台问世,这一平台能够为客户提供完整的从设计到晶圆的并行流程,使早期加工成为可能。完全可互操作的Mentor流程...
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