摘要：大面积平行光曝光机是印刷线路板(PCB)、显示面板和触摸屏等电子产品重要的制造设备,由于采用复眼结合反射镜的非轴对称科勒照明光路,其曝光均匀度只有0.85左右,难以满足高精度加工制造的需求。针对此问题,提出了采用自由曲面复眼替代传统的球面复眼,建立了高均匀度复眼单元的自由曲面面型设计方法。光线追迹仿真实验结果显示,采用所提方法后曝光均匀度提高到了0.91以上,满足高精度加工制造所需的高曝光均匀度的要求。所设计的自由曲面复眼的面型连续,可以通过金刚石车削进行精密加工,有望在大面积平行光曝光机照明光路中得到广泛应用。

摘要：根据激光定位光栅扫描电子束曝光机工件台具有的特点，设计了ｘ向用静压气浮导轨结构，实现快速扫描；ｙ向采用机械滚珠导轨，满足间歇步进运动，即走一步、停一段时间再走一步、为保证在高速运动下的稳定性，将机械驱动系统、激光测量和计算机组成一个闭环控制系统，利用计算机不断采样叠代，选择合适的校正系数适时校正，实现了快速运动精确达到预定位置。采用双频激光高精度测量定位，从误差分析出发，对结构进行了改善，保证了最终精度。

摘要：本文讨论可变矩形电子束曝光机的电子光学设计,着重分析光路构成和变形偏转补偿等问题。DJ-2型机使用最少的透镜数实现变形束曝光机的功能要求。为实现高速变形偏转,采用高灵敏度串接式平板静电偏转器,通过精确的线性补偿和旋转补偿,使靶上束斑电流密度和分辨率以及原点位置不受束斑尺寸改变的影响。实验结果表明,用发夹型钨丝阴极时的束流密度大于0.4A/cm^2;2×2mm扫描场内边缘分辨率优于0.2μm。

摘要：在变形电子束曝光机中,为使曝光均匀必须保证靶上束斑电流密度物边缘分辨率不随束斑形状和尺寸的变化而改变。实现这一目标的关键是正确设计成形偏转器。本文讨论采用高灵敏度平行板偏转器实现成形偏转时,为达到上述目标应进行的线性补偿和旋转补偿的设计计算方法。给出了用实验方法改变电子源象与偏转板几何中心的轴向距离所测得的线性补偿因子和旋转补偿因子的值。实验结果与计算值符合较好。

摘要：本文概略地介绍了在电了束曝光机上使用的自动输片系统的要求以及其组成部分;较详细地叙述了送取片机构(机械手)的动作过程,并对系统的控制原理及软件设计进行了说明。

摘要：曝光机是图形转移中的重要设备。传统的迈拉晒架存在着需要赶气、效率低等缺点,已不能满足现代生产的需要。现今双玻璃晒架已在国外中、高档曝光机上普遍采用,但在国内各厂商还不具备生产能力。设计了散射光曝光机的双玻璃晒架系统,研究了玻璃的固定方式、腔体真空、底片吸附等问题,在实验基础上得出了当膨胀密封圈气压为0.03MPa,腔体真空度和底片吸附分别为40kPa和80kPa时,该晒架系统的真空效果较好。

摘要：为实现DB—5型电子束曝光机工件台高速度及高精度的要求,研制了x向闭式静压气浮导轨,该系统由双导轨及单导轨两部分组成。本文主要介绍静压气浮导轨系统的设计计算、性能试验。

摘要：讨论目前电子束曝光机的基本结构和复合聚焦偏转系统的基本原理,并根据这一原理对已有的复合系统如MOL,VAL,PFDS等进行了研究。推导了双通道复合系统的象差公式,提出了设计广义变轴复合系统的方法。对其构成方式进行了讨论,具体设计出一个广义变轴复合系统。并推导了双通道复合系统的偏转场计算公式,设计了一个双静电偏转场双物镜复合系统。

摘要：印染行业普遍使用喷蜡制网,掌握好其后的曝光工艺环节,对质量有重要的影响。操作中经常调整曝光次数来改变曝光量。曝光时间合适的网容易冲洗,定影后留下的部分结实牢固。原来使用的进口STORK曝光机电气老化,经常出故障,造成废品。为了提高产品质量,提高生产效率,设计使用单片机控制曝光机电路,能自动按顺序完成曝光工序。本文结合电路设计,软件的结构,分析了整机的工作过程。

摘要：大功率曝光机是制板生产线上进行照相制板时必不可少的设备，制板时曝光时间一般在几秒到几十秒之间可调，要求在曝光定时时间一到后必须立即关闭曝光灯，从而完成一次照相制板的操作。两组曝光灯(分为上灯区和下灯区)可同时工作于相同的曝光时间或不同的曝光时间。定时器的定时设置和定时时间到送出关闭曝光灯的控制信号的设计采用了8031单片机控制的定时器(也可以采用倒计时器)来进行控制。本文主要论述了大功率曝光机定时控制系统的硬件设计和软件设计。