摘要：介绍在光刻中使用２４８ｎｍ和１９３ｎｍ波长的一种新颖作图装置。设计该装置以抗蚀剂材料为其特征，应用在先进的存储器（６４Ｍｂ、２５６Ｍｂ）和高密度双极ＩＣ生产中。随着应用于图形中ＤＵＶ灵敏的光致抗蚀剂的工艺情况，将描述其作图装置和它的光路系统、作图片子的ＳＥＭ图像，并讨论进一步提高ＤＵＶ图形分辨率的方法。

摘要：床旁摄影是放射科日常摄影工作的一部分,其可移动性极大方便了危重和卧床等患者的X线摄影检查[1],从早期的传统暗盒X线摄影到CR,及现在普遍使用的DR,使床旁摄影从工作流程优化、图像质量上都发生了质的飞跃。然而伴随而来的是工作量不断增加,床旁摄影中原本存在的技师X线防护问题更显突出。我们通过对原有手闸曝光方式的改装,设计并制作自动延时曝光装置,实现床旁摄影曝光时技师远离球管的距离防护目的[2]。

摘要：捍卫集成电路独创布图设计的专有权,保护所有者权益,集成电路设计业才能健康发展。"钜锐案"的判决是我国集成电路知识产权保护的一个历史性的重大事件,对于集成电路布图设计侵权案的统一裁判尺度和法律适用标准以及促进集成电路技术创新和产业发展都具有重要意义,堪称经典性指导案例。一。