摘要：传统薄膜器件通常使用物理气相沉积法进行开发及镀制,难以实现薄膜镀制与设计的一致性,导致薄膜器件镀制及研发与设计不符。为此,文章基于椭偏法对薄膜器件进行测量及反向优化进行研究,建立薄膜参数测量及反向优化模型,使用椭偏仪对研发镀制的Ag金属薄膜器件进行网格划分测量区域及模型优化;使用模型将介电常数的实部虚部进行拟合,测得材料的介电常数求出材料的折射率和消光系数;最后,拟合膜层厚度为20.226nm,测得薄膜参数厚度、折射率n和消光系数k数据与镀制薄膜数据进行对比,厚度相差3.562nm,镀制与测量值具有一定差异,测得折射率和消光系数数据与传统方式相比更合理和精准。

摘要：为获得铬(Cr)金属薄膜的光学常数,文章采用武汉颐光科技公司生产的SE-VM-L型宽光谱全穆勒矩阵椭偏仪,测量和分析了用光控自动真空镀膜机沉积在石英玻璃上得到的单层Cr金属薄膜,得到了Cr金属薄膜在200~1 700 nm宽谱上的光学常数曲线和薄膜厚度。根据Cr金属的薄膜特性及成膜特点,采用“基底/空气”模型进行拟合,建模时采用Cauchy模型和Gaussion模型,对建立的各种模型测量得到的数据进行了分析和比较。结果表明,对于厚度较薄的金属样品来说,椭偏仪无法同时解偶样品薄膜折射率N、消光系数K和样品薄膜厚度d;模拟较薄Cr纯金属薄膜时,需要导入样品的透过率T,通过拟合得到均方差为2.3,测量得到较合理的Cr金属薄膜的厚度为23.77 nm。该研究结果对Cr金属薄膜膜层设计和制备有参考价值。

摘要：极薄银在滤光片、高反射镜等中有广泛的应用,其光学常数严重影响着膜系的特性。在室温条件下,采用电阻热蒸发技术分别在硅和玻璃基底上沉积5.3nm～26nm不同厚度的极薄银薄膜,用TalySurfCCI非接触式轮廓仪测量了薄膜的厚度,研究了不同厚度银薄膜的光学常数n和k。镀制厚度5.3nm、7.9nm、14.1nm、26.0nm的银薄膜,结果显示极薄银的光学常数与块状银光学常数不同,当膜厚小于14.1nm时,折射率n在380nm～600nm随波长增加而增加,在600nm～1 600nm随波长增加缓慢减小至趋于稳定值2.6;消光系数k在380nm～500nm随着波长增加而增加,在500nm～1 600nm随波长增加而缓慢减小至趋于0不变;当膜厚大于14.1nm时,折射率随波长增加而增加,消光系数随波长近似呈线性增加。整体上,膜厚增加时折射率减小且趋于块状银的折射率,k随厚度增加而增加并最终趋于块状膜。用此拟合的光学常数代入TFc膜系设计软件计算其透射率,发现与分光光度计测得的透射率吻合较好。

摘要：为了实现光学材料参数高精度测量与初步检测材料快速进行.基于对椭偏法测量光学材料折射率的原理,对实验仪器的选取和实验过程进行设计,得出实验数据,对实验中的光强强度变化误差、入射角精度、起偏器和检偏器转动误差等方面进行分析.结果表明:该实验在实验仪器选取和测角精度上改进,使折射率测量误差达到1×10^(-4),实现了光学参数的低成本,高精度检测.

摘要：讨论了在单晶锗上为获得单波段（３～５μｍ）及双波段（３～５μｍ、８～１２μｍ）兼容ａ－Ｃ：Ｈ增透膜所必需的膜系设计，及用椭偏法对该膜进行的增透结果分析。结果表明，ａ－Ｃ：Ｈ膜是理想的红外增透膜。椭偏法对分析所制备的膜是否符合膜系设计要求及沉积工艺参数的确定具有重要意义。

摘要：根据菲涅尔全内反射相变理论,给出了双菱体λ/4消色差器的结构设计、性能分析和测量方法.由有效通光孔径和光线追迹设计出BK7玻璃在波长532nm时相位延迟λ/4的双菱体的结构,用作532nm至1064nm波长范围的标准λ/4相位延迟器.理论分析了入射角变化和波长变化对双菱体相位延迟的影响,当入射角变化限制在±4.3°以内时,其影响得到补偿;波长从532nm到1064nm产生的误差为-0.65°.采用椭偏法中的消光技术,分别实测了双菱体在532nm和1064nm波长下的相位延迟为:90.08±0.14°和88.99±0.1°,可知两不同波长产生的相位延迟误差为-1.09°.

摘要：采用电子束蒸发法在K9玻璃衬底上分别制备了设计厚度为115nm、467nm、652nm的硫化锌薄膜，分别记为A、B、C；采用椭偏法研究薄膜的光学特性。对薄膜A、B、C进行Brendel振予拟合，根据ZnS薄膜特性及成膜特点，建立模型“基底（K9玻璃）／有效介质层（50％K9玻璃及50％ZnS）／ZnS薄膜／表面粗糙层（50%ZnS玻璃及50％空气）／空气”，得到了ZnS薄膜的光学常数曲线和厚度。结果表明，用Brendel振子建立的上述模型对实验数据进行拟合，得到了较小的评价函数MSE；硫化锌薄膜在3000-12500nm波长范围内折射率n和消光系数k都随波长的增加而减小，消光系数惫在长波趋近于0。ZnS薄膜的测量厚度与设计厚度接近。该研究结果对制备和测量高质量的ZnS薄膜有参考意义。

摘要：准确的测量薄膜的折射率对于集成光学器件设计和制造有着重要的意义。系统而详细地介绍了多年来在折射率测量上经常采用的几种方法,分别对其原理和特点进行了分析。

摘要：利用直流磁控溅射技术(DCMS)制备锐钛矿TiO2薄膜,研究了工艺参数中的衬底温度、压强和溅射功率对TiO2薄膜的沉积速率的影响,利用场发射扫描电镜(FESEM)、X射线衍射仪(XRD)和椭圆偏振光测试仪表征了样品的表面形貌、结构和膜厚,实验结果表明:利用DMS制备薄膜为单一的的锐钛矿结构,表面组成颗粒均匀。随着沉积温度的增加,薄膜的沉积速率从100℃的2.16nm/min增加至400℃的4.03nm/min;压强增加,薄膜的沉积速率降低,0.75Pa、1.5Pa和3.0Pa条件下的沉积速率分别为4.48nm/min、3.18nm/min和2.42nm/min;溅射功率增加,沉积速率提高,100W、295W和443W对应的沉积速率分别为2.95nm/min、3.18nm/min和7.50nm/min。最后用TFC膜系设计软件在玻璃基底上设计了双层TiO2薄膜,利用设计结果制备了薄膜,实验值和理论设计结果非常吻合。

摘要：O484.5 2001021199遗传算法在椭圆偏振测量中的应用=Application ofgenetic algorithm to ellipsometry[刊,中]/彭子龙,李佐宜,胡煜,谭立国,杨晓非(华中理工大学电子科学与技术系.湖北,武汉(430074))//光学技术.—2000,26(3).-277-280详细介绍了椭圆偏振法测量的基本原理和椭偏函数方程的建立,将遗传算法引入到椭偏法测试薄膜的折射率和厚度的计算中,重点分析了各遗传算子的设计。图5表1参6(李瑞琴)