摘要：SnTe纳米薄膜材料光学常数的准确获取,对于其在高性能光电器件设计和在光电子领域的潜在应用具有重要的意义。然而,目前仍然很少有关于获取其纳米薄膜光学常数方法的相关研究报道。采用磁控溅射法以SnTe单靶为靶材,在石英衬底上制备了SnTe纳米薄膜;在未加衬底温度和未进行退火处理的条件下,通过制备工艺参数优化,即得到晶化的、组分可控的面心立方结构SnTe纳米薄膜。采用椭圆偏振光谱法,建立不同的拟合模型结构,利用SE数据库中的SnTe材料数据列表和Tauc-Laurents模型对所制备的SnTe纳米薄膜材料的膜厚、组成及折射率、消光系数等光学常数进行了研究。结果显示,具有该厚度的SnTe纳米薄膜材料在可见光波段具有较高的折射率、在可见到近红外具有较宽的光谱吸收。

摘要：报导了４８６／８０计算机控制的自动化的转动检偏计式的光度法椭圆偏振光谱仪的设计和制造．仪器主要由光学系统、机械转动控制系统和数据采集系统组成．其频谱范围２００～９００ｎｍ，入射角可在５～８５°连续改变，灵敏度达０．１μＷ光强，有很高的精密度，折射率ｎ达０．００２量级，消光系数ｋ达０．００３量级，准确度ｎ达０．００１量级，ｋ达０．００２量级．实验检验了仪器的精密度和准确度．

摘要：利用椭圆偏振光谱仪和原子力显微镜,研究了相同温度下不同退火气氛及压强处理对溶液旋涂法制备a-IGZO光学特性和薄膜微观结构的影响。实验结果表明,当退火气氛为O_2时,压强由0.1MPa增加到1.5MPa,薄膜的光学带隙由3.23eV增大到3.31eV,表面粗糙层由6.77nm降低到4.77nm。与N_2气氛相比,1.5MPa O_2气氛下薄膜的光学带隙有所提高,表面粗糙度也有所降低。因此,在1.5MPa O_2气氛下,可以有效降低薄膜内部有机物的残留及缺陷,形成更加致密的非晶a-IGZO薄膜。