摘要：针对某冷轧厂生产的双相钢边部存在漏镀缺陷的问题,对漏镀部位的缺陷形貌和成分进行了分析,结合高强双相钢选择性氧化原理对现场的相关影响参数逐个进行剖析、识别,确定出各个参数的控制范围,随后通过试验设计得出了关键控制参数的最佳组合,并针对性制定了控制措施。结果表明:锌铁合金双相钢的漏镀缺陷是由于炉内气氛控制不好,锰、铬等合金元素扩散到表面出现选择性外氧化导致的;在保证性能的前提下,在Ac_1线以上适当降低退火温度,有利于内氧化的形成;炉鼻子气氛控制要加强对加湿器的管理,一旦加湿过大就会引起炉鼻子处露点过高,导致冷区氧含量过高,造成已还原的金属出现二次氧化;通过采取热区温度770~790℃,加热区露点-10~15℃,炉鼻子氧体积分数小于0.001 0%,锌铁合金双相钢的漏镀缺陷率由改善前的8%大幅下降到1.42%,且缺陷主要集中在带钢头部位置,优化效果明显。

摘要：在历史题材展示陈列中有效地设计现场气氛,使人产生身临其境之感,有助于观众深切领会展示题材的内涵。本文就历史题材展示陈列设计中的气氛控制提出了自己的见解。

摘要：磁传动搅拌在化工领域应用广泛,为了防止反应釜内具有腐蚀性或溶剂性的物料气体进入磁传动腔体,目前采用的最佳方法是机械隔离。但该方法在实际应用中存在很多弊端。因此本文作者提出了气氛控制设想,通过原理试验验证了气氛控制的可行性及正确性。再结合磁传动搅拌器设计要求设计出磁传动搅拌器气氛控制装置。经理论分析及实践证明,该装置不仅防护磁传动内部免受腐蚀及轴承脂流失,而且操作简单,无需维护,具有重要的工程实用意义。

摘要：在热处理炉内气氛控制方面，氧探头的应用促进了碳势控制技术的进步和热处理质量的提高。研制可靠性高、寿命长的氧挠头仍是当今热处理行业的关键课题之一。随着固体电解质陶瓷制造技术的提高，氧探头可应用的温度范围被进一步拓宽。近几年，氧探头在气体渗氮时氮势控制方面的应用研究在国外得到发展，并有可能成为该领域的技术热点。IZrO。固体电解质稳定的ZrO。陶瓷在一定的温度和气氛条件下具有离子导电特性，被称为固体电解质。氧探头就是基于固体电解质的上述特性而设计的，如图1所示。其实质如同一个氧浓差电池，由Zr（）2固体电解质和两个电极组成。固体电解质起着传递电荷和输送氧离子的作用，在高氧压倒（图1中的左方、阴极）

摘要：为退火温度范围设计的氧探头可提供有价值的氧化—还原以及脱碳方面的资料。

摘要：按退火温度范围设计、制造的氧探头能够提供氧化—还原反应,以及脱碳方面的情况。 碳钢和合金钢在649～760℃温度范围内的气氛退火是在推杆、箱式或并式炉中进行的。 为了避免氧化和脱碳,通常在处理过程中使用氨基气氛。由于炉子泄漏和钢件表面有污垢,在热处理设备内总有氧气和水汽。它们会同钢件发生各种反应,其中包括如下的氧化反应(1～3式)和脱碳反应(4～6式):

摘要：为测定退火温度而设计的氧探头,向我们提供了有关氧化—还原方面、脱碳方面的有价值的信息。 碳钢和合金钢在1200°F(649℃至1400°F(760℃)范围内的空气退火,是在推进式炉、箱式炉和钟罩式炉中进行的。在此过程中,为阻止氧化和脱碳,常常使用氮基气氛。

摘要：基于两级计算机控制系统，根据陶瓷烧成炉生产过程对控制系统的要求，对炉温和气氛控制系统进行了主要硬件、软件的结构设计，并给出了控制算法。

摘要：晶体炉内气氛的来源 :水气 ,它源于加热体、原料、保温体、炉壁上的吸附水分 ,在升温生长时释放出来 :原料中所含比晶体熔点低的杂质、酸根及其基团 ,随着温度的升高不断挥发出来。再加上 (例如生长CaF2 晶体 )原料本身挥发出来的CaF2 、F2 等形成复杂的炉内气氛。这些气氛在一定条件下 (电压、温度等 )产生电晕放电过程 ,引起温场波动 ,致使晶体产生断层。炉内气氛加上放电伴生的化学反应使晶体产生包裹体 ,形成严重的颗粒散射 ;如果发生持续放电 ,使之过流 ,会击穿主电路的可控硅、二极管造成停电 ,损坏设备并会造成炉内装置的破坏 ,不仅导致实验失败 ,还会造成重大经济损失。因此 ,炉内气氛必须得到有效控制。炉内气氛控制 ,简而言之就是尽量减少炉内气氛。为此我们选择了适当大抽力的真空机组 :更为重要的是我们在炉内结构上进行了改造。为了降低坩埚内的蒸气压 ,排除蒸气传统的方法是在坩埚盖上开几个小孔 ,我们采用的是伞式迂回孔 ,这样既能充分排气 ,又不至于使挥发物大量跑到坩埚外 ,减少了炉内气氛。一般在晶体生长过程中 ,为了获得合理的温场和节省功率 ,传统的方法是在加热体下面加隔环 ,加热体上面保温筒上面加厚的密封盖。我们在不影响温场和保温的情况下 ,采用专门设计的导气孔 。

摘要：耐火材料在烧成过程中,需要对烧成气氛进行科学的控制,从而才能保证烧成产品的质量和稳定性。