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SUVA工艺改善色偏研究: 收藏
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引用; 《光电子技术》2024年第2期44卷 168-172页; 作者：张勇李林任驹李凡彭林吴潘强成都京东方显示科技有限公司成都610299; 为优化SUVA3工艺中左右视角色偏(CR_((80/20)))较UV^(2)A工艺差的问题,从工艺、设计等方向,进行了组合曝光(PBS+WGP模式)、ITO狭缝角度、偏光片角度(WGP)等条件的探究。结果表明:组合曝光(PBS+WGP模式)、ITO角度、WGP角度均可优化色偏,...; 为优化SUVA3工艺中左右视角色偏(CR_((80/20)))较UV^(2)A工艺差的问题,从工艺、设计等方向,进行了组合曝光(PBS+WGP模式)、ITO狭缝角度、偏光片角度(WGP)等条件的探究。结果表明:组合曝光(PBS+WGP模式)、ITO角度、WGP角度均可优化色偏,但从色偏收益和量产性角度考虑,ITO Slit角度+WGP角度调整更优,其最优条件为:WGP角度为f°(极限角度)+ITO狭缝角度为I°,可将SUVA3工艺色偏优化至UV^(2)A工艺水准,CR_((80/20))可达到35.6%。; 来源：详细信息评论

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