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TiO_(2)/TiN纳米管异质结用于光电催化CO_(2)还原:氮辅助活性氢机制
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《Chinese Journal of Catalysis》2023年 第4期47卷 243-253页
作者:魏艳 段睿智 张巧兰 曹有智 王金圆 王冰 万雯瑞 刘春燕 陈加藏 高红 景欢旺兰州大学化学化工学院功能有机分子化学国家重点实验室甘肃兰州730000 兰州大学化学化工学院甘肃省先进催化中心功能有机分子化学国家重点实验室甘肃兰州730000 中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室辽宁大连116023 中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室山西太原030001 
利用太阳能将CO_(2)转换为高附加值的化学品是解决化石燃料消耗过快与CO_(2)排放过度问题的可行性方案.光电催化CO_(2)还原可以模拟自然光合作用将CO_(2)还原为多碳产物(C^(2+)).然而,光电催化剂的带隙与太阳辐射光谱不匹配以及载流子...
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CoSe/TiN同轴纳米管阵列在染料敏化太阳能电池对电极中的应用研究
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《影像科学与光化学》2017年 第5期35卷 758-764页
作者:徐红霞 王在伟 张传健 崔光磊中国科学院青岛生物能源与过程研究所青岛市太阳能与储能重点实验室山东青岛266101 
网作为基底,采用阳极氧化、氨气氮化的方法制备了TiN纳米管,随后电沉积CoSe,制备了CoSe/TiN/Ti同轴纳米管阵列电极。循环伏安结果表明,CoSe/TiN/Ti电极对I-3具有高的电催化还原性能,这归因于高催化活性的CoSe和高导电的TiN的协同效...
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TiN涂层的正交设计工艺分析
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《热加工工艺》1996年 第4期25卷 22-23页
作者:周细应 万润根 陈凯旋南昌航空工业学院 
对多弧离子镀TiN涂层的工艺(包括氮分区、弧靶啼场、弧源电流)进行了正交设计分析.表明,影响TiN涂层表面硬度的主要因素为氮分压和弧靶磁场大小,弧流大小为次要因素.氮分压对TiN涂层的相结构影响较大,而弧靶磁场影响电...
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印度科学家开发出化学光电池
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《电源技术》2015年 第7期39卷 1349-1350页
作者:贾旭平机构不详 
近日,印度研究人员用光来激发水系蓄电池(ARB)阴极的放电反应,所设计的光电池由氮化钛光阳极、亚铁氰化铁阴极和Na2S2O8化学充电剂组成。光电池在黑暗条件下释放的容量很低,但是一旦人工光照后,比容量可达77.8 m Ah/g,这充分证实该电...
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辐照对聚酰亚胺基板铜薄膜金属化TiN阻挡层的影响
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《电子元件与材料》2002年 第12期21卷 11-12,16页
作者:刘杨秋 梁彤祥 倪晓军 付志强清华大学核能技术设计研究院新材料研究室北京102201 
采用物理气相沉积方法在聚酰亚胺基板上沉积Cu薄膜,利用TiN阻挡Cu元素向聚酰亚胺基板内部扩散。研究了在60Co-g射线辐照条件下,TiN阻挡层的阻挡效果,扫描俄歇微探针谱图分析表明:TiN层可以有效地阻挡Cu元素向聚酰亚胺基板内的扩散。当...
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压气机叶片防护涂层的研究
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《航空工程与维修》2001年 第1期 24-25页
作者:许樵府中国南方航空动力机械公司 
含低钼的钼合金复合涂层具有耐冲刷和抗腐蚀的特性,用多弧离子镀工艺制造这种涂层可以满足航空发动机压气机叶片在海上工作的防护需要。海上飞机发动机和舰船动力机的压气 机叶片受环境影响较为严重,为解决其防腐问题和进而带来的...
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钨的化学机械抛光过程中TiN-W电偶的腐蚀行为(英文)
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《电化学》2001年 第2期7卷 189-194页
作者:程璇 林昌健厦门大学化学系 厦门大学材料科学与工程系固体表面物理化学国家重点实验室福建厦门361005 
化学机械抛光 (CMP)技术是同时利用化学和机械作用来获得固体表面亚微米尺度上平整性非常有效的方法 ,从 90年代初期起已成为制备高质量镜头和镜面及集成电路制造过程中硅片表面预处理工艺中最常用的技术之一 .钨的化学机械抛光是用钨...
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X射线光谱法测量仿金TiN装饰镀层厚度的程式设计
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《计量与测试技术》2016年 第9期43卷 49-51,53页
作者:刘海华 宋鹏涛 龚翔珠海罗西尼表业有限公司广东珠海519085 
采用真空离子镀技术在单晶Si片、316不锈钢片表面制备金黄色仿金TiN装饰镀层。用扫描电子显微镜和能谱仪对离子镀仿金TiN装饰镀层厚度及成分进行研究分析。结果表明,离子镀仿金(金黄色)TiN镀层成分为Ti77 wt.%、Ni23 wt.%,Ti、N原子比为...
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反应溅射制备TiN薄膜的靶中毒模型研究
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《微细加工技术》1997年 第1期 53-59页
作者:王敬义 杨剑辉 胡慧娟 陈忠财 张丽娜 李振香 王宇 王颖华中理工大学固体电子学系武汉430074 
从靶动力学和粒子输运导出了靶中毒的判据.建立的靶中毒模型能体现工艺参数对靶中毒的影响,从而对解决薄膜高速生长与组份匹配的矛盾,为设计新型无中毒反应室提供了理论依据。
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用TiCl_3低温化学气相沉积TiN的实验研究
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《武汉冶金科技大学学报》1997年 第1期20卷 43-48页
作者:袁泽喜 胡传胜 谭萍 
运用热力学对用TiCl3为源在低温下化学气相沉积TiN的可行性进行了论证,着重介绍了实验研究及实验结果。在所设计的TiCl3生成以及TiN形成的实验装置上,通过对HCl(g)与NH3的流量和沉积总压强的调节与控制,...
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