摘要：本文采取4因子4水平田口设计,用等离子体增强化学气相沉积法制备了沉积在白玻璃上的单层N+A-SI:H薄膜,测试了薄膜的应力,膜厚,折射率,透过率,及SI-H/N-H键含量,综合评价不同参数配比条件下N+A-SI:H单层膜的膜质表现,针对比较重要的参数:沉积速率,Thickness Uniformity,SI-H键含量进行了田口分析,两阶段策略优化选出PECVD制程中的N+A-SI layer的最佳参数配比为:Pressure-385.7 Pa,Spacing-20.32 mm,RF Power-13000W,Gas Ratio-3.12。

摘要：神经电极表面涂层对电极性能有重要影响,其中沉积工艺是重要的影响参量.本文着重考察涂层沉积工艺对其电学性能的影响,并对最佳沉积工艺所得涂层的抗磨损性能进行研究.具体而言,在控制沉积过程中电极通过电荷量相当的前提下,比较3种聚苯胺电化学沉积方法的优劣.结果显示:相比裸电极,循环伏安沉积电极阻抗降低了29.7%,CV面积增加了4.05倍;恒电流沉积电极阻抗降低了39.8%,CV面积增加了5.4倍;恒电位沉积电极阻抗降低了4.3%,CV面积增加了4.9倍,恒电流法效果最佳.较低的阻抗及较大的CV面积意味着较好的电学性能.在此标准下,恒电流沉积时间为600~700 s时,沉积效果较好.为考察聚苯胺涂层磨损后对电极性能改善效果的影响,设计了一种模拟体内磨损装置进行相关试验.结果显示:磨损过程中涂层的电学性能改善效果逐渐下降,经4 h磨损后,修饰电极的阻抗值甚至高于裸电极阻抗.因此,在对导电涂层的评估中,其抗磨损性能应引起重视.

摘要：围绕电化学沉积Ni_(x)O_(y)电致变色薄膜致色效率低、响应速度慢及循环稳定性差等问题,综述了电解液pH、电流密度和沉积时间等电化学沉积参数对Ni_(x)O_(y)薄膜性能的影响。重点阐述了掺杂改性、纳米结构设计和薄膜复合3种优化Ni_(x)O_(y)薄膜电致变色性能的方法。最后,对Ni_(x)O_(y)薄膜未来发展趋势进行了展望。

摘要：在硫酸锌和亚硒酸钠的酸性柠檬酸钠电解液体系中进行ZnSe薄膜生长条件系列实验,为了进一步研究电化学沉积参数对薄膜成分和形貌的影响,采用正交试验方法,对pH值、离子的浓度比、电流密度、络合剂、温度等沉积参数进行了进一步详细研究,得到了最佳电化学沉积参数;最后,用分光光度计、扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射仪(XRD)对薄膜的成分、形貌和结构进行分析和表征,表明该薄膜的化学计量比接近1∶1。

摘要：Circular polarization selection of light is an important property of helical *** helical thin films fabricated by glancing angle deposition can provide both circular polarization selection and wavelength tuning in this *** selective transmissions were depicted in calculations and *** wavelength tuning mechanism was revealed as the relationship between peak wavelength and deposition ***,tunable circular polarization components can be designed according to the mechanism mentioned above and fabricated by glancing angle deposition *** applications include tunable optical filters,optical pulse-shapers,biosensors etc.